納米材料分析

第一章 緒論
1.1 尺寸效應(yīng)
1.2 納米結(jié)構(gòu)功能材料與器件的分子工程研究
1.3 納米結(jié)構(gòu)分析器件
參考文獻
第二章 掃描隧道顯微術(shù)
2.1 STM基礎(chǔ)知識
2.2 STM實驗方法
2.3 STM應(yīng)用舉例
參考文獻
第三章 原子力顯微術(shù)
3.1 AFM基礎(chǔ)知識
3.2 AFM的不同操作模式
3.3 納米材料研究中的AFM
參考文獻
第四章 針尖化學(xué)
4.1 針尖化學(xué)的概念
4.2 針尖的化學(xué)修飾方法
4.3 分子間力與表面力
4.4 化學(xué)力滴定
4.5 表面化學(xué)識別
4.6 表面化學(xué)反應(yīng)的監(jiān)測
4.7 鍵能與鍵強度的測定
4.8 化學(xué)反應(yīng)的限域
4.9 單分子性質(zhì)測定
參考文獻
第五章 XPS及與其他技術(shù)組合在納米材料分析中的應(yīng)用
5.1 XPS對Au(111)上4-巰基氫化肉桂酸自組裝膜的表征
5.2 XPS與高分辨透射與掃描電鏡組合對納米線和納米電纜的表征
5.3 XPS等研究pH對納米結(jié)晶WO3膜結(jié)構(gòu)和光致變色特性的影響
5.4 角分解XPS(Angle?Resolved XPS,ARXPS)對自組裝單層(Self Assembled Monolayers,SAMs)的分析
5.5 XPS等對在引發(fā)劑修飾的SAMs上進行聚(CN-異丙基丙烯酸胺)合成的分析
5.6 烷基胺和烷基硫醇對小Pt納米原子團簇的表面修飾：XPS研究有機配體對小Pt納米原子團簇結(jié)合能的影響
5.7 用XPS峰形分析測定表面納米結(jié)構(gòu)
5.8 XPS和近邊X射線吸收精細結(jié)構(gòu)對Au和Ag上含硫芳香族自組裝單層結(jié)構(gòu)的分析
5.9 X射線光電子衍射(Xray Photoelectron Diffraction,XPD)對SiC和AlN外延膜多種類型和極化性的研究
參考文獻
第六章 紫外光電子能譜在納米材料分析中的應(yīng)用
6.1 第一排過渡金屬和C3原子團簇的振動分辨光電子能譜：MC-3（M=Sc,V,Cr,Mn,Fe,Co和Ni）
6.2 UPS等對自組裝有機/無機半導(dǎo)體界面上酞菁鉛電子結(jié)構(gòu)的分析
6.3 光電發(fā)射譜對單壁碳納米管束的分析
6.4 角分解光電子發(fā)射分析準(zhǔn)一維導(dǎo)體Nb3Te4
6.5 角分解光電子能譜（ARPES）和STM等分析半導(dǎo)體表面上自組織的量子線
參考文獻
第七章 飛行時間二次離子質(zhì)譜術(shù)、電子能量損失譜和表面擴展X射線吸收精細結(jié)構(gòu)等在納米材料分析中的應(yīng)用
7.1 飛行時間二次離子質(zhì)譜術(shù)對自組裝單層的分析
7.2 電子能量損失譜在納米材料分析中的應(yīng)用
7.3 表面擴展X射線吸收精細結(jié)構(gòu)譜等對Cu(100)上自組裝納米尺度Fe島結(jié)構(gòu)和磁性的分析
7.4 近邊X射線吸收精細結(jié)構(gòu)譜（NEXAFS）等對氧化硅納米原子團的形態(tài)、光致發(fā)光和電子結(jié)構(gòu)的分析
7.5 XPS等對Si納米線中表面結(jié)構(gòu)、光致發(fā)光和激發(fā)的比較研究1
參考文獻
第八章 俄歇電子能譜在納米材料分析中的應(yīng)用
8.1 引言
8.2 俄歇電子能譜原理
8.3 俄歇電子能譜儀的結(jié)構(gòu)
8.4 俄歇電子能譜的實驗技術(shù)
8.5 俄歇電子能譜圖的分析技術(shù)
8.6 俄歇電子能譜在納米材料研究上的應(yīng)用
參考文獻
第九章 X射線結(jié)構(gòu)分析技術(shù)
9.1 X射線衍射分析基礎(chǔ)
9.2 X射線衍射的基本理論
9.3 X射線衍射裝置和實驗
9.4 X射線衍射分析
9.5 納米材料研究中的XRD分析
參考文獻
第十章 納米材料的顆粒度分析
10.1 基礎(chǔ)知識
10.2 粒度分析方法
10.3 粒度分析的樣品制備
10.4 粒度分析在納米材料中的應(yīng)用
參考文獻
第十一章 電子顯微分析技術(shù)
11.1 透射電鏡（TEM）基礎(chǔ)知識
11.2 掃描電鏡（SEM）基礎(chǔ)知識
11.3 電鏡技術(shù)在納米材料研究中的應(yīng)用
參考文獻
第十二章 振動光譜技術(shù)
12.1 振動光譜的基本原理
12.2 納米材料的紅外吸收和拉曼散射行為
12.3 幾種典型的振動光譜實驗技術(shù)
參考文獻