電子槍與離子束技術(shù)

1 電子光學(xué)
1.1 電子光學(xué)特征
1.2 軸對稱電場中的電子運(yùn)動
1.3 電透鏡
1.4 磁透鏡
1.5 實(shí)用磁透鏡
1.6 靜電透鏡與磁透鏡的比較
2 電子束技術(shù)基礎(chǔ)
2.1 電子束的產(chǎn)生及性質(zhì)
2.2 電子槍概述
2.3 強(qiáng)流電子槍設(shè)計(jì)基礎(chǔ)
2.4 電子束蒸發(fā)沉積
3 離子束物理基礎(chǔ)
3.1 等離子體基本性質(zhì)
3.2 等離子體的分類
3.3 等離子體的獲得
3.4 低溫等離子體中粒子運(yùn)動和效電基本過程
3.5 離子束與材料表面的相互作用
4 強(qiáng)流軸向電子槍
4.1 概述
4.2 軸向電子槍基本結(jié)構(gòu)和工作原理
4.3 軸向電子束發(fā)生系統(tǒng)設(shè)計(jì)計(jì)算
4.4 電子光路系統(tǒng)設(shè)計(jì)計(jì)算
4.5 槍室真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)
4.6 電子槍的調(diào)試
4.7 強(qiáng)流軸向槍電源設(shè)計(jì)
4.8 電子槍x射線的形成與屏蔽防護(hù)
5 偏轉(zhuǎn)電子槍
5.1 電子束流磁偏轉(zhuǎn)理論基礎(chǔ)
5.2 偏轉(zhuǎn)電子槍工作原理與結(jié)構(gòu)
5.3 偏轉(zhuǎn)槍（e型槍）參數(shù)設(shè)計(jì)
5.4 偏轉(zhuǎn)電子槍束流設(shè)計(jì)計(jì)算
5.5 壓差孔的設(shè)計(jì)
5.6 電子槍頭的安裝與調(diào)試
5.7 偏轉(zhuǎn)電子槍電源
6 空心陰極放電（hcd）電子槍
6.1 空心陰極放電效應(yīng)
6.2 空心陰極電子槍工作原理
6.3 空心陰極電子槍設(shè)計(jì)參數(shù)
6.4 hcd槍中等離子體的離化率與電流形成
6.5 偏轉(zhuǎn)電磁場的設(shè)計(jì)計(jì)算
6.6 空心陰極與輔助陽極的設(shè)計(jì)
6.7 離子鍍中等離子源的束流偏轉(zhuǎn)
7 離子束技術(shù)
7.1 離子源
7.2 離子注入技術(shù)
7.3 離子束沉積技術(shù)
8 s槍離子濺射源的設(shè)計(jì)基礎(chǔ)
8.1 s槍的基本原理與結(jié)構(gòu)
8.2 s槍濺射源結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
8.3 s槍磁控濺射的工作特性
8.4 基本參數(shù)的設(shè)計(jì)計(jì)算
參考文獻(xiàn)