模擬電路版圖的藝術(shù)（影印版）

Preface
Acknowledgments
1  Device Physics
1.1  Semiconductors  1
1.1.1 Generation and Recombination  4
1.1.2 Extrinsic Semiconductors  6
1.1.3 Diffusion and Drift  9
1.2  PN Junctions  10
1.2.1 Depletion Regions  10
1.2.2 PN Diodes  13
1.2.3 SchottkyDiodes  15
1.2.4 Zener Diodes  17
1.2.5 Ohmic Contacts  19
1.3  Bipolar Junction Transistors  20
1.3.1 Beta 22
1.3.2 I-V Characteristics  23
1.4  MOS Transistors  24
1.4.1 Threshold Voltage  27
1.4.2 I-V Characteristics  29
1.5  JFET Transistors  31
1.6  Summary  33
1.7  Exercises  34
2  Semiconductor Fabrication
2.1  Silicon Manufacture  36
2.1.1 Crystal Growth  37
2.1.2 Wafer Manufacturing  38
2.1.3 The Crystal Structure of Silicon  38
2.2  Photolithography  40
2.2.1 Photoresists  40
2.2.2 Photomasks and Reticles  41
2.2.3 Patterning  42
2.3  Oxide Growth and Removal  42
2.3.1 Oxide Growth and Deposition  43
2.3.2 Oxide Removal  44
2.3.3 Other Effects of Oxide Growth and Removal  46
2.3.4 Local Oxidation of Silicon (LOCOS)  48
2.4  Diffusion and Ion Implantation  49
2.4.1 Diffusion  50
2.4.2 Other Effects of Diffusion  52
2.4.3 Ion Implantation  53
2.5  Silicon Deposition  55
2.5.1 Epitaxy  56
2.5.2 Polysilicon Deposition  58
2.6  Metallization  58
2.6.1 Deposition and Removal of Aluminum  59
2.6.2 Refractory Barrier Metal  60
2.6.3 Silicidation  62
2.6.4 Interlevel Oxide, Interlevel Nitride, and Protective Overcoat  63
2.7  Assembly  64
2.7.1 Mount and Bond  66
2.7.2 Packaging  69
2.8  Summary  69
2.9  Exercises  69
3  Representative Processes
3.1  Standard Bipolar  72
3.1.1 Essential Features  72
3.1.2 Fabrication Sequence  73
3.1.3 Available Devices  77
3.1.4 Process Extensions  84
3.2  Polysilicon-Gate CMOS  87
3.2.1 Essential Features  88
3.2.2 Fabrication Sequence  89
3.2.3 Available Devices  95
3.2.4 Process Extensions  100
3.3  Analog BiCMOS  104
3.3.1 Essential Features  104
3.3.2 Fabrication Sequence  106
3.3.3 Available Devices  111
3.4  Summary  115
3.5  Exercises  116
4  Failure Mechanisms
4.1  Electrical Overstress  118
4.1.1 Electrostatic Discharge (ESD)  118
4.1.2 Electromigration  121
4.1.3 The Antenna Effect  122
4.2  Contamination  124
4.2.1 Dry Corrosion  124
4.2.2 Mobile Ion Contamination  125
4.3  Surface Effects  128
4.3.1 Hot Carrier Injection  128
4.3.2 Parasitic Channels and Charge Spreading  131
4.4  Parasitics  139
4.4.1 Substrate Debiasing  140
4.4.2 Minority-Carrier Injection  143
4.5  Summary  153
4.6  Exercises  153
5  Resistors
5.1  Resistivity and Sheet Resistance  156
5.2  Resistor Layout  158
5.3  Resistor Variability  162
5.3.1 Process Variation  162
5.3.2 Temperature Variation  163
5.3.3 Nonlinearity  163
5.3.4 Contact Resistance  166
5.4  Resistor Parasitics  167
5.5  Comparison of Available Resistors  170
5.5.1  Base Resistors  170
5.5.2  Emitter Resistors  171
5.5.3  Base Pinch Resistors  172
5.5.4  High-Sheet Resistors  173
5.5.5  Epi Pinch Resistors  175
5.5.6  Metal Resistors  176
5.5.7  Poly Resistors  177
5.5.8  NSD and PSD Resistors  180
5.5.9  N-well Resistors  180
5.5.10 Thin-film Resistors  181
5.6  Adjusting ResistorValues  182
5.6.1Tweaking Resistors  182
5.6.2  Trimming Resistors  185
5.7  Summary  191
5.8  Exercises  192
6  Capacitors
6.1  Capacitance  194
6.2  Capacitor Variability  200
6.2.1  Process Variation  200
6.2.2Voltage Modulation and Temperature Variation  201
6.3  Capacitor Parasitics  203
6.4  Comparison of Available Capacitors  205
6.4.1Base-emitter Junction Capacitors  205
6.4.2  MOS Capacitors  207
6.4.3  Poly-poly Capacitors  209
6.4.4  Miscellaneous Styles of Capacitors  211
6.5  Summary  212
6.6  Exercises  212
7  Matching of Resistors and Capacitors
7.1  Measuring Mismatch  214
7.2  Causes of Mismatch  217
7.2.1Random Statistical Fluctuations  217
7.2.2Process Biases  219
7.2.3  Pattern Shift  220
7.2.4Variations in Polysilicon Etch Rate  222
7.2.5Diffusion Interactions  224
7.2.6Stress Gradients and Package Shifts  226
7.2.7Temperature Gradients and Thermoelectrics  236
7.2.8Electrostatic Interactions  242
7.3  Rules for Device Matching  249
7.3.1Rules for Resistor Matching  249
7.3.2Rules for Capacitor Matching  253
7.4  Summary  257
7.5  Exercises  257
8  Bipolar Transistors
8.1  Topics in Bipolar Transistor Operation  260
8.1.1 BetaRolloff  262
8.1.2 Avalanche Breakdown  262
8.1.3 Thermal Runaway and Secondary Breakdown  264
8.1.4 Saturation in NPN Transistors  266
8.1.5 Saturation in Lateral PNP Transistors  270
8.1.6 Parasitics of Bipolar Transistors  272
8.2  Standard Bipolar Small-signal Transistors  274
8.2.1 The Standard Bipolar NPN Transistor  274
8.2.2 The Standard Bipolar Substrate PNP Transistor  279
8.2.3 The Standard Bipolar Lateral PNP Transistor  283
8.2.4 High-voltage Bipolar Transistors  291
8.3   Alternative Small-signal Bipolar Transistors  293
8.3.1 Extensions to Standard Bipolar  293
8.3.2 Analog BiCMOS Bipolar Transistors  294
8.3.3 Bipolar Transistors in a CMOS Process  297
8.3.4 Advanced-technology Bipolar Transistors  299
8.4  Summary  302
8.5  Exercises  303
9  Applications of Bipolar Transistors
9.1  Power Bipolar Transistors  306
 9.1.1  Failure Mechanisms of NPN Power Transistors  307
 9.1.2  Layout of Power NPN Transistors  311
 9.1.3  Saturation Detection and Limiting  319
9.2  Matching Bipolar Transistors  322
 9.2.1  Random Variations  323
 9.2.2  Emitter Degeneration  325
 9.2.3  NBLShadow  327
 9.2.4  Thermal Gradients  328
9.2.5  Stress Gradients  332
9.3  Rules for Bipolar Transistor Matching  334
9.3.1  Rules for Matching NPN Transistors  335
9.3.2  Rules for Matching Lateral PNP Transistors  337
9.4  Summary  340
9.5  Exercises  340
10  Diodes
10.1  Diodes in Standard Bipolar  343
10.1.1 Diode-connected Transistors  343
10.1.2 Zener Diodes  346
10.1.3 Schottky Diodes  352
10.2  Diodes in CMOS and BiCMOS Processes  356
10.3  Matching Diodes  359
10.3.1 Matching PN Junction Diodes  359
10.3.2 Matching Zener Diodes  360
10.3.3 Matching Schottky Diodes  361
10.4  Summary 362
10.5  Exercises  362
11 MOS Transistors
11.1  Topics in MOS Transistor Operation  364
11.1.1 Modeling the MOS Transistor  364
11.1.2  Parasitics of MOS Transistors  370
11.2  Self-aligned Poly-Gate CMOS Transistors  376
11.2.1  Coding the MOS Transistor 377
11.2.2  N-well and P-well Processes  379
11.2.3  Channel Stops  381
11.2.4  Threshold Adjustlmplants  383
11.2.5  Scaling the Transistor  386
11.2.6  Variant Structures  388
11.2.7  Backgate Contacts  393
11.3  Summary  396
11.4  Exercises  396
12  Applications of MOS Transistors
12.1  Extended-voltage Transistors  399
12.1.1  LDD and DDD Transistors  400
12.1.2  Extended-drain Transistors  403
12.1.3  Multiple Gate Oxides  405
12.2  Power MOS Transistors  407
12.2.1  Conventional MOS Power Transistors  410
12.2.2  DMOS Transistors  417
12.3  The JFET Transistor  422
12.3.1  Modeling the JFET 422
12.3.2 JFET Layout 423
12.4  MOS Transistor Matching  426
12.4.1  Geometric Effects  427
12.4.2  Diffusion and Etch Effects  430
12.4.3  Thermal and Stress Effects  433
12.4.4  Common-centroid Layout of MOS Transistors  435
12.5  Rules for MOS Transistor Matching  439
12.6  Summary  442
12.7 Exercises  443
13  Special Topics
13.1  Merged Devices  445
13.1.1  Flawed Device Mergers  446
13.1.2  Successful Device Mergers  450
13.1.3  Low-risk Merged Devices  452
13.1.4  Medium-risk Merged Devices  453
13.1.5  Devising New Merged Devices  455
13.2  Guard Rings  455
13.2.1  Standard Bipolar Electron Guard Rings  456
13.2.2  Standard Bipolar Hole Guard Rings  457
13.2.3  Guard Rings in CMOS and BiCMOS Designs  458
13.3  Single-level Interconnection  460
13.3.1  Mock Layouts and Stick Diagrams  461
13.3.2  Techniques for Crossing Leads  463
13.3.3  Types of Tunnels  464
13.4  Constructing the Padring  466
13.4.1 Scribe Streets and Alignment Markers  466
13.4.2 Bondpads, Trimpads, and Testpads  468
13.4.3 ESD Structures  471
13.4.4 SelectingESD Structures  483
13.5  Exercises  485
14  Assembling the Die
14.1  Die Planning  488
14.1.1  Cell Area Estimation  489
14.1.2  Die Area Estimation  491
14.1.3  Gross Profit Margin  494
14.2  Floorplanning  495
14.3  Top-level Interconnection  500
14.3.1  Principles of Channel Routing  501
14.3.2  Special Routing Techniques  503
14.3.3  Electromigration  506
14.3.4  Minimizing Stress Effects  508
14.4  Conclusion  510
14.5  Exercises  510
Appendices
  A. Table of Acronyms Used in the Text  513
  B. The Miller Indices of a Cubic Crystal  516
  C. Sample Layout Rules  519
  D. Mathematical Derivations  527
  E. Sources for Layout Editor Software  532
Index  533