離子束表面工程技術(shù)與應(yīng)用

前言
第1章 離子束表面工程技術(shù)概述
1.1 離子束表面工程技術(shù)原理
1.2 離子束注入的特點(diǎn)和局限性
1.3 離子束表面工程技術(shù)的發(fā)展概況
第2章 離子束注入技術(shù)
2.1 離子束注入技術(shù)簡(jiǎn)介
2.2 非金屬離子注入
2.3 金屬離子注入
2.4 離子注入WC合金鋼
2.5 離子注入改善TiN和TiC沉積膜特性
2.6 長(zhǎng)程離子注入
2.7 雙注入
2.8 共注入
2.9 離子注入材料的性能改善
2.10 離子注入工業(yè)應(yīng)用
第3章 離子束增強(qiáng)沉積技術(shù)
3.1 簡(jiǎn)介
3.2 金屬膜的制備和特性
3.3 超硬陶瓷膜
3.4 類金剛石膜
3.5 固體滑潤(rùn)膜
3.6 光學(xué)膜
3.7 c-BN膜的制備和特性
3.8 β-C3N4膜
3.9 離子增強(qiáng)沉積的工業(yè)應(yīng)用
第4章 磁過濾離子束沉積技術(shù)
4.1 簡(jiǎn)介
4.2 磁過濾離子束金剛石薄膜沉積的應(yīng)用
4.3 Ti沉積改善H13鋼抗腐蝕性能
4.4 Ti+C+N共沉積膜的制備及其性能改善
4.5 聚合物表面沉積
4.6 Mo+C和Ti+C共沉積MoC膜和TiC膜工藝和特性
4.7 Ti+Fe+C三元共沉積膜的特性
4.8 靶加熱NbN沉積膜的特性
4.9 高壓負(fù)脈沖沉積薄膜的特性
4.10 超厚膜的形成
4.11 離子束沉積
4.12 降低膜的內(nèi)應(yīng)力途徑
4.13 增強(qiáng)膜與基體粘合強(qiáng)度的途徑
4.14 DLC膜的制備、特性和應(yīng)用
4.15 磁過濾制膜特性和應(yīng)用綜述
第5章 全方位離子注入技術(shù)
第6章 強(qiáng)脈沖離子束材料改性技術(shù)
第7章 離子束創(chuàng)建新型制膜工程
第8章 離子束技術(shù)發(fā)展展望
參考文獻(xiàn)