光學(xué)薄膜技術(shù)

第一章 薄膜光學(xué)特性計算基礎(chǔ)
1.1 單一界面的反射率和透射率
1.2　單層介質(zhì)膜的反射率
1.3 多層介質(zhì)膜的反射率和透射率
1.4　金屬薄膜的光學(xué)特性
1.5　光學(xué)零件的反射率和透射率
第二章 介質(zhì)膜系及其應(yīng)用
2.1 減反射膜
2.2　高反射膜
2.3　中性分束膜
2.4　截止濾光片
2.5　帶通濾光片
2.6　偏振分束膜
2.7　消偏振膜系
第三章　薄膜制造技術(shù)
3.1　光學(xué)真空鍍膜機(jī)
3.2　真空與物理汽相沉積
3.3　真空獲得與檢測
3.4　熱蒸發(fā)
3.5　濺射
3.6 離子鍍
3.7　離子輔助鍍
第四章　光學(xué)薄膜制造工藝
4.1 光學(xué)薄膜器件的質(zhì)量要素
4.2　影響膜層質(zhì)量的工藝要素
4.3　獲得精確厚度的方法
4.4　獲得均勻膜層的方法
第五章　薄膜材料及其性質(zhì)
5.1　薄膜的微觀結(jié)構(gòu)與性質(zhì)
5.2　常用光學(xué)薄膜材料
附錄　常見薄膜材料參數(shù)
參考文獻(xiàn)