聚合物表面分析：X射線光電子譜和靜態(tài)次級離子質(zhì)譜（XPS SSIMS）

第一章 引言
1．1 聚合物表面的重要性
1．2 聚合物表面和體相的差異
1．3 添加劑和污染物的影響
1．4 聚合物表面預處理及改性
1．5 與表面特性有關的深度范圍
1．6 聚合物表面分析技術的要求
1．7 XPS簡要歷史
1．8 SIMS簡要歷史
第二章 X射線光電子譜
2．1 儀器結構
2．2 物理基礎
第三章 聚合物的XPS信息
3．1 樣品荷電
3．2 結合能坐標基準
3．3 輻照損傷
3．4 內(nèi)能級
3．5 震激伴峰
3．6 價帶譜
3．7 Auger系列
3．8 官能團的標識
3．9 非破壞性深度剖析
第四章 靜態(tài)次級離子質(zhì)譜
4．1 儀器結構
4．2 物理基礎
第五章 SSIMS信息
5．1 元素識別
5．2 聚合物譜
5．3 “小”分子譜
5．4 陽離子化
第六章 聚合物表面分析研究實例
6．1 引言
6．2 EMA共聚合物的表面表征
6．3 生物醫(yī)用聚氨酯的表面表征
6．4 放電處理對聚烯烴表面的改性
6．5 PVC／PMMA共混物的表面結構
6．6 電活性聚合物