電子束曝光微納加工技術

定　價：￥50.00

作　者：	顧文琪編
出版社：	北京工業(yè)大學出版社
叢編項：	電子束離子束光子束微納加工技術系列專著
標　簽：	電子其他

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ISBN：	9787563913008	出版時間：	2004-07-01	包裝：	平裝
開本：	16	頁數：	310	字數：

內容簡介

　　本書系統(tǒng)地介紹了電子束曝光技術的發(fā)展歷史和原理、系統(tǒng)的組成和分類、應用和發(fā)展前景，同時詳細介紹了多種先進的電子束曝光機的性能和技術指標，電子光學柱、精密工件臺等分部件和掩模版制作、電子束直刻等關鍵技術。全書共分10章，第一章為電子束曝光技術概論；第二章為電子束曝光機中的電子光學系統(tǒng)；第三章為工件臺及激光干涉儀精密定位；第四章為圖形發(fā)生器；第五章為檢測、對準和校正技術；第六章為電子束曝光機的計算機控制技術和數據轉換；第七章為電子束曝光制圖藝；第八章為真空控制系統(tǒng)；第九章為國內外幾種束曝光機的介紹；第十章為電子束曝光技術的應用和發(fā)展前景。本書可作為微電子專業(yè)領域的科技人員和從事微電子、微光學、微機械等微納加工技術領域的科技人員的技術參考書，財同時還可作為高等院校專業(yè)教師、研究生的參考用書。

作者簡介

　　顧文琪，1941年生，中國科學院電工研究所研究員，博導，曾任中國科學院電工研究所微細加工研究室主任、副所長，中國科學院高技術局局長、綜合計劃局局長。1967年起在中國科學院電工研究所工作，曾任該所微細加工研究室主任、副所長，中國科學院高技術局局長、中國科學院綜合計劃局局長?，F任該所研究員、博士生導師，中國科學院創(chuàng)新工程重大項目負責人。顧文琪研究員，長期工作在微細加工科研領域，從事電子束曝光技術的研究，注重于電子束曝光系統(tǒng)總體設計和電子光學柱設計，發(fā)表論文40多篇。先后主持和參與1：1電子束投影系統(tǒng)、可變矩型電子束曝光機、亞微米電子束曝光機以及0.1微米電子束曝光機裝置研究，目前正主持中國科學院創(chuàng)新工程重大項目——電子束縮小投影成像曝光系統(tǒng)研究，該項目主攻21世紀納米電子束光刻技術。顧文琪研究員，先后獲得中國科學院科技進步二等獎3項：DY-5型亞微米電子束曝光機研制、微米級電子束曝光機實用化、管理現代化的研究和實踐。

圖書目錄

前言
第一章電子束曝光技術概論
第一節(jié) 微納加工與曝光技術
第二節(jié) 電子束曝光技術的發(fā)展歷史及原理
第三節(jié) 不同類型的電子束曝光系統(tǒng)
參考文獻
第二章電子束曝光機中的電子光學系統(tǒng)
第一節(jié) 概述
第二節(jié) 電子光學基礎
第三節(jié) 電子束曝光機的透鏡
第四節(jié) 電子束曝光機的電子槍
第五節(jié) 電子光住的對中系統(tǒng)
第六節(jié) 電子束曝光機的偏轉掃描系統(tǒng)
第七節(jié) 束閘及其控制
第八節(jié) 電子光學系統(tǒng)的像差
第九節(jié) 電子束曝光機聚焦成像和偏轉系統(tǒng)的設計計算
參考文獻
第三章工件臺及激光干涉儀精密定位
第一節(jié) 精密工件臺技術的發(fā)展概況
第二節(jié) 激光干涉儀測量系統(tǒng)
第三節(jié) 雙頻激光干涉儀產品介紹
第四節(jié) 測量誤差分析及激光干涉儀的安裝與調整
第五節(jié) 精密工件臺
第六節(jié) 微動工件臺
第七節(jié) 自動輸片系統(tǒng)
第八節(jié) 工件臺的驅動與控制
參考文獻
第四章圖形發(fā)生器；第五章為檢測、對準和校正技術
第一節(jié) 掃描圓形電子束曝光機的圖形發(fā)生器
第二節(jié) 可變矩形電子束曝光機的圖形發(fā)生器
第三節(jié) 光柵掃描電子束曝光機的圖形發(fā)生器
第四節(jié) 以DSP為基礎的新型圖形發(fā)生器
第五節(jié) 圖形發(fā)生器的執(zhí)行部件
參考文獻
第六章電子束曝光機的計算機控制技術和數據轉換
第一節(jié) 檢測、對準和校正技術的意義和作用
第二節(jié) 電子與固體的相互作用
第三節(jié) 電子束曝光機常用的幾種信號及檢測器
第四節(jié) 檢測對準校正原理及方法
第五節(jié) 影響電子束曝光機精度的因素及分析方法
參考文獻
第七章電子束曝光制圖藝
……
第八章真空控制系統(tǒng)
第九章國內外幾種束曝光機的介紹
第十章電子束曝光技術的應用和發(fā)展前景。