冷坩堝法制取難熔材料

第1章 冷坩堝中材料熔化的物理基礎(chǔ)
1.1 材料感應(yīng)加熱的理論發(fā)展
1.2 熔體直接高頻加熱的參數(shù)
1.3 在高頻場中熔化介電體的機理
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第2章 冷坩堝中熔體的制取和保持
2.1 材料在冷坩堝中加熱的特點
2.2 啟動加熱
2.3 穩(wěn)定狀態(tài)下熔體的保持
2.4 熔體體積中的溫度分布
2.5 原料孔隙度對熔化制度的影響
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第3章 用于冷坩堝中直接高頻熔化的工藝設(shè)備的基本部件
3.1 高頻發(fā)生器與冷坩堝
3.2 控制和調(diào)節(jié)熔體溫度的方法和設(shè)備
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第4章 冷坩堝中難熔材料的合成和結(jié)晶
4.1 冷坩堝——有效的化學(xué)反應(yīng)器
4.2 熔融富鋁紅柱石的制取
4.3 多晶導(dǎo)電亞鉻酸釔和亞鉻酸鑭
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第5章 單晶生長
5.1 剛玉、紅寶石和其他氧化物晶體在籽晶上的晶體拉制（喬赫拉爾斯基法）
5.2 冷坩堝中熔體的定向結(jié)晶
5.3 冷坩堝中結(jié)晶過程的改型
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第6章 難熔和特純玻璃的制取
6.1 玻璃工藝的要點
6.2 R2O3-Al2O3-SO2（R為Sc、Y、La、Nd、Er）系的難熔玻璃
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第7章 晶體家族——菲安尼特
7.1 純二氧化鋯的多晶形現(xiàn)象和相結(jié)構(gòu)
7.2 ZrO2-R2O3（R為Y、Eu、Gd、Yb）系相圖
7.3 菲安尼特工藝
7.4 二氧化鋯基固溶體立方相的晶體化學(xué)
7.5 菲安尼特晶體的結(jié)構(gòu)缺陷
7.6 菲安尼特中缺陷的生成機制
7.7 菲安尼特的機械應(yīng)力和熱退火
7.8 菲安尼特的物理化學(xué)和力學(xué)性能
7.9 菲安尼特的光學(xué)和光譜學(xué)性能
7.10 菲安尼特的電物理、聲學(xué)、彈性及光彈性性能
7.11 菲安尼特的寶石質(zhì)量
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第8章 部分穩(wěn)定的二氧化鋯（PSZ）晶體
8.1 PSZ晶體中的相轉(zhuǎn)變
8.2 PSZ晶體的相組成
8.3 PSZ晶體的制取
8.4 PSZ晶體的疇結(jié)構(gòu)
8.5 PSZ晶體的顯微組織
8.6 PSZ晶體的力學(xué)性能
8.7 PSz晶體的強度特性
8.8 PSZ晶體強化機理的現(xiàn)代理念
8.9 PSz晶體最有前途的應(yīng)用領(lǐng)域
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第9章 C-OX晶體
9.1 C-OX晶體的制取
9.2 C-Ox晶體的光譜性能
9.3 固有缺陷和雜質(zhì)離子在ZrO2一Y2O3固溶體晶體中的電荷狀態(tài)
結(jié)論
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