X射線熒光光譜分析基礎

前言
第一章 X射線熒光光譜原理
1.1 概述
1.2 X射線和X射線光譜
1.2.1 X射線的特征
1.2.2 X射線光譜
1.2.3 X射線和物質(zhì)的作用
1.3 特征熒光X射線
1.4 X射線的吸收和散射
1.4.1 X射線的吸收
1.4.2 X射線的散射
1.5 X射線的分光
1.6 X射線熒光光譜分析的特點和應用
1.6.1 特點
1.6.2 應用
第二章 波長色散X射線熒光光譜儀
2.1 儀器的組成
2.2 熒光X射線的激發(fā)
2.2.1 X射線高壓發(fā)生器
2.2.2 X射線管
2.2.3 熱交換器
2.2.4 一次X射線濾光片
2.2.5 X射線光路
2.3 熒光X射線的分光
2.3.1 限制光欄
2.3.2 衰減器
2.3.3 準直器
2.3.4 分光晶體
2.4 熒光X射線的探測和脈沖高度分析
2.4.1 正比計數(shù)器
2.4.2 閃爍計數(shù)器
2.4.3 脈沖高度分布和脈沖高度分析器
2.4.4 2(5)聯(lián)動機構
2.4.5 流氣型正比計數(shù)器芯線污染和清潔
2.4.6 氣體密度穩(wěn)定器
2.5 測角儀
2.6 固定道背景自動扣除裝置
第三章 定性分析和半定量分析
3.1 定性分析
3.1.1 定性分析方法的建立
3.1.2 定性分析譜圖解析
3.1.3 譜峰分解
3.1.4 背景計算和扣除
3.2 半定量分析
3.2.1 半定量分析的一般情況
3.2.2 光電子基本參數(shù)法
3.2.3 散射線基本參數(shù)法
3.3 元素分布分析
3.3.1 γ-θ樣品臺
3.3.2 元素分布分析
3.3.3 微小區(qū)域分布分析
第四章 定量分析
4.1 概述
4.2 定量分析中的基體效應
4.2.1 吸收效應
4.2.2 增強效應
4.3 基體效應的數(shù)學校正
4.3.1 經(jīng)驗系數(shù)法
4.3.2基本參數(shù)法
4.3.3 理論影響系數(shù)法
4.4 實驗校正法
4.4.1 內(nèi)標法
4.4.2 標準加入法(增量法)
4.4.3 稀釋法
4.5 定量分析的譜線干擾和校正
4.5.1 定量分析的譜線干擾
4.5.2 譜線干擾的消除和校正
4.6 定量分析步驟
4.6.1 定量分析測定條件選擇
4.6.2 定量分析流程
4.7 定量分析誤差
4.7.1 誤差的種類
4.7.2 統(tǒng)計誤差的處理
4.7.3 精密度和準確度
4.7.4 死時間和計數(shù)的漏計
4.7.5 靈敏度 檢測限 測定下限
4.8 定量分析管理
4.8.1 X射線強度的標準化
4.8.2 分析管理
4.9 薄膜和多層膜分析
4.9.1 薄膜X射線熒光光譜分析的一般概念
4.9.2 多層薄膜的基本參數(shù)法
4.9.3 薄膜分析的應用
第五章 取樣、制樣和樣品保管
5.1 X射線熒光分析樣品誤差的類型
5.2 樣品制備的一般方法
5.3 金屬樣品的取樣和制樣
5.3.1 金屬樣品的取樣
5.3.2 金屬樣品的表面處理
5.4 粉末樣品的取樣和制樣
5.4.1 粉末樣品的主要誤差來源
5.4.2 取樣
5.4.3 壓片法
5.4.4 特殊粉末制樣法
5.5 熔融制樣法
5.5.1 玻璃熔片法
5.5.2 熔融條件的選擇
5.5.3 熔融過程和注意事項
5.6 液體樣品的取樣和制樣
5.6.1 直接溶液法
5.6.2 紙上點滴法
5.6.3 分離富集法
5.7 特殊樣品制樣法
5.8 樣品的保存
5.8.1 金屬樣品的保存
5.8.2 粉末樣品的保存
第六章 能量色散及其他x射線熒光光譜分析方法
6.1 能量色散X射線熒光光譜分析
6.1.1 概述
6.1.2 能量色散X射線熒光光譜儀
6.1.3 應用
6.2 全反射X射線熒光光譜分析
6.2.1 概述
6.2.2 全反射X射線熒光光譜儀
6.2.3 應用
6.3 同步輻射X射線熒光光譜分析
6.3.1 概述
6.3.2 同步輻射源
6.3.3 應用
6.4 微束X射線熒光光譜分析
6.4.1 概述
6.4.2 微東X射線熒光光譜儀
6.4.3 應用
6.5 質(zhì)子激發(fā)X射線分析
6.5.1 概述
6.5.2 質(zhì)子激發(fā)X射線分析裝置
6.5.3 應用
參考文獻
附錄1 物理和化學基本常數(shù)
附錄2 元素及化合物密度
附錄3 吸收限波長和臨界激發(fā)能量
附錄4 特征X射線波長和能量
附錄5 K殼層熒光產(chǎn)額ωk
附錄6 K系伴線波長(A)
附錄7 K系線輻射躍遷幾率
附錄8 干擾譜線表
附錄9(a) 質(zhì)量吸收系數(shù)(μ/ρ：Cm2/g)
附錄9(b) 質(zhì)量吸收系數(shù)(Mα、Mβ線)
附錄10 熔融制樣燒失量校正方法和實例