真空測(cè)量與控制

0 緒論
　0.1 真空測(cè)量
　0.2 真空計(jì)校準(zhǔn)
　0.3 真空檢漏
　0.4 真空測(cè)量?jī)x器電路及其發(fā)展
　0.5 真空設(shè)備控制技術(shù)
1 真空測(cè)量概述
　1.1 真空度的表征、單位和真空區(qū)域劃分
　1.2 真空計(jì)分類
　1.3 真空計(jì)測(cè)量范圍
　1.4 真空測(cè)量的特點(diǎn)和真空計(jì)選擇原則
2 液位式真空計(jì)
　2.1 U型管真空計(jì)
　2.2 壓縮式真空計(jì)
3 彈性變形真空計(jì)和粘滯性真空計(jì)
　3.1 彈性元件真空表
　3.2 電容式薄膜真空計(jì)
　3.3 振膜真空計(jì)
　3.4 磁懸浮轉(zhuǎn)子真空計(jì)
4 熱傳導(dǎo)真空計(jì)
　4.1 熱傳導(dǎo)真空計(jì)的工作原理
　4.2 熱傳導(dǎo)真空計(jì)的測(cè)量范圍
　4.3 電阻真空計(jì)
　4.4 熱偶真空計(jì)
　4.5 已知混合氣體成分真空度的測(cè)量
　4.6 熱傳導(dǎo)真空計(jì)的優(yōu)缺點(diǎn)
5 電離真空計(jì)
　5.1 熱陰極電離真空計(jì)的工作原理
　5.2 普通型熱陰極電離真空計(jì)
　5.3 熱陰極電離真空計(jì)的測(cè)量電路
　5.4 高壓力熱陰極電離真空計(jì)
　5.5 超高真空熱陰極電離真空計(jì)
　5.6 冷陰極電離真空計(jì)
　5.7 放射性電離真空計(jì)
6 分壓力測(cè)量和殘余氣體分析
　6.1 概述
　6.2 四極質(zhì)譜計(jì)
　6.3 其他質(zhì)譜計(jì)
　6.4 識(shí)譜技術(shù)
7 真空計(jì)校準(zhǔn)
　7.1 概述
　7.2 靜態(tài)膨脹法
　7.3 動(dòng)態(tài)流導(dǎo)法
　7.4 標(biāo)準(zhǔn)壓縮式真空計(jì)
　7.5 副標(biāo)準(zhǔn)真空計(jì)
8 真空測(cè)量技術(shù)
　8.1 氣體種類對(duì)真空測(cè)量的影響
　8.2 測(cè)量系統(tǒng)對(duì)被測(cè)系統(tǒng)的影響
　8.3 真空規(guī)管安裝對(duì)測(cè)量的影響
　8.4 特殊條件下的真空測(cè)量
9 真空檢漏概述
　9.1 漏氣判斷和漏孔表示法
　9.2 最大允許漏率的估算
　9.3 檢漏方法分類
　9.4 對(duì)檢漏方法的要求與選擇
10 各種檢漏方法
　10.1 靜態(tài)升壓法
　10.2 氣泡檢漏法
　10.3 氨氣檢漏法
　10.4 真空計(jì)檢漏法
　10.5 離子泵檢漏法
　10.6 氫一鈀檢漏法
　10.7 熒光檢漏法
　10.8 放射性同位素檢漏法
　10.9 慢性漏氣的加速檢測(cè)法
11 真空檢漏儀器
　11.1 高頻火花檢漏儀
　11.2 鹵素檢漏儀
　11.3 氣敏半導(dǎo)體檢漏儀
　11.4 氦質(zhì)譜檢漏儀
　11.5 漏率測(cè)量的誤差
　11.6 真空檢漏工作的注意事項(xiàng)
12 標(biāo)準(zhǔn)漏孔
　12.1 標(biāo)準(zhǔn)漏孔及其常用的結(jié)構(gòu)形式
　12.2 標(biāo)準(zhǔn)漏孔的校準(zhǔn)
　12.3 標(biāo)準(zhǔn)漏孔使用中應(yīng)注意的問題
13 真空測(cè)量?jī)x器電路
　13.1 WZK—1A復(fù)合真空計(jì)
　13.2 DC-3型超高真空計(jì)
　13.3 ZDZ-2D數(shù)字電阻真空計(jì)
　13.4 數(shù)字化熱偶真空計(jì)
　13.5 ZDR-10型微機(jī)化電離真空計(jì)
　13.6 DNB束功率測(cè)量系統(tǒng)設(shè)計(jì)
14 真空設(shè)備與系統(tǒng)的自動(dòng)控制
　14.1 真空系統(tǒng)電氣控制概述
　14.2 真空獲得設(shè)備控制電路
　14.3 真空鍍膜機(jī)繼電器控制電路
　14.4 真空熱處理爐真空測(cè)量與控制電路
　14.5 真空冷凍干燥機(jī)電加熱系統(tǒng)控制
　14.6 真空釬焊爐溫度測(cè)控電路
　14.7 鍍膜生產(chǎn)線程序控制系統(tǒng)
　14.8 真空壓力浸漆設(shè)備PLC控制系統(tǒng)
　14.9 同步輻射光源真空控制系統(tǒng)
　14.10 真空冶金設(shè)備抽氣裝置專家系統(tǒng)
參考文獻(xiàn)