光場中的原子分子及激光技術(shù)

定　價：￥79.00

作　者：	（美）汪正民著
出版社：	科學出版社
叢編項：
標　簽：	光學

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ISBN：	9787030338907	出版時間：	2012-04-01	包裝：	平裝
開本：	16開	頁數(shù)：	334	字數(shù)：

內(nèi)容簡介

　　《光場中的原子分子及激光技術(shù)》由汪正民所著，系統(tǒng)論述了原子多光子電離的相關理論基礎和研究方法，詳細討論了用光電子成像裝置測量光電子角分布來研究原子光電離的特征，重點講述了如何在實驗上獲得電子云影像并由此確定原子光離化參數(shù)以及研究奇偶宇稱躍遷過程的量子干涉。本書還以相當?shù)钠榻B了原子激光光譜和分子紅外多光子離解研究的某些專題，詳細討論了無多普勒展寬高分辨激光光譜學的基本原理與研究方法。光學與激光技術(shù)方面的內(nèi)容包括激光測距、風洞流場全息干涉測量以及法布里一珀羅干涉儀（標準具）在光波長與光譜線寬測量、激光縱模選擇等方面的原理及應用。最后一章介紹在光學層析成像領域的最新研究成果。并詳細闡述了基于激光二維掃描系統(tǒng)和ccD照相機的非接觸光學層析成像實驗裝置及其在光學漫射層析成像和光學熒光層析成像中的應用?！豆鈭鲋械脑臃肿蛹凹す饧夹g(shù)》讀者范圍包括從事原子分子物理、激光光學、光物理、光化學和光學層析成像研究的廣大科技工作者，以及相關專業(yè)的大學教師、研究生與大學生。

作者簡介

　　汪正民，美國普渡大學物理學哲學博士.主要在以下大學和研究機構(gòu)學習、從事教學與研究工作：南京大學、中國科學技術(shù)大學、中國科學院安徽光學精密機械研究所、美國埃姆斯國家實驗室（Ames Laboratory）、普渡大學（Purdue University）、賓夕法尼亞大學（University of Pennsylvania）。

圖書目錄

序
前言
第1章原子多光子電離
1.1 引言
1.2 原子多光予電離與光電子角分布
1.2.1 歷史回顧
1.2.2 多光子電離的基本概念
1.2.3 銣原子的光電離通道
1.2.4 線偏振光雙光子電離與光電子角分布的傳統(tǒng)測量
1.2.5 原子參數(shù)對光電子角分布的影響
1.2.6 任意偏振光雙光子電離光電子角分布理論
1.3 光電子成像實驗
1.3.1 光學系統(tǒng)
1.3.2 光電子成像系統(tǒng)
1.3.3 真空系統(tǒng)與原子束的產(chǎn)生
1.3.4 地球磁場的影響及消除
1.4 銣原子雙光子電離的完全測量
1.4.1 歷史背景
1.4.2 數(shù)據(jù)采集及光電子角分布（電子云）影像的形成
1.4.3 原子光電離參數(shù)的確定
1.5 本章小結(jié)
參考文獻
第2章雙通道光電離及量子干涉測量
2.1 量子干涉的基本概念及歷史回顧
2.2 光電子角分布的相位控制
2.3 實驗方法
2.3.1 雙色激光場實驗裝置及調(diào)整
2.3.2 相位延遲盒
2.3.3 紫外與可見光相位差的測量
2.3.4 實驗條件與實驗程序
……
第3章激光光譜學的幾個專題
第4章分子的紅外多光子離解
第5章光學與激光技術(shù)
第6章非接觸光學層析成像
附錄
主要名詞術(shù)語英漢對照表