薄膜光學與真空鍍膜技術

上篇
第1章 緒論
1.1 薄膜光學概述
1.2 電磁理論基礎
第2章 光學薄膜特性計算
2.1 遞推法
2.2 矢量法
2.3 矩陣法
2.4 非均勻介質(zhì)膜特性計算
第3章 光學薄膜的普遍定理
3.1 透射定理
3.2 普遍等效定理
3.3 對稱膜等效定理
3.4 周期性多層膜理論
3.5 誘導透射定理
第4章 膜系設計方法
4.1 圖解法
4.2 解析法
4.3 自動設計法
4.4 其他設計法
第5章 常用膜系分析與設計
5.1 減反射膜（增透膜）
5.2 反射膜
5.3 分光膜
5.4 截止濾光片
5.5 帶通濾光片
5.6 光波斜入射對膜系的影響
5.7 光學薄膜設計范例
第6章 光學薄膜應用舉例
6.1 光學薄膜在導引頭半實物仿真系統(tǒng)中的應用
6.2 光學薄膜在眼鏡行業(yè)中的應用
6.3 截止濾光片的應用
6.4 帶通濾光片的應用
下篇
概述
第7章 真空鍍膜設備
7.1 真空基礎知識
7.2 真空的獲得
7.3 真空的測量與檢漏
第8章 真空薄膜沉積技術
8.1 熱蒸發(fā)鍍膜技術
8.2 濺射鍍膜技術
8.3 離子鍍膜技術
8.4 膜厚的監(jiān)控
8.5 獲得均勻膜層的方法
第9章 物理氣相沉積薄膜的結(jié)構(gòu)與特性
9.1 薄膜形成與微觀結(jié)構(gòu)
9.2 薄膜特性
9.3 鍍膜工藝對薄膜性能的影響
第10章 光學薄膜的性能測試
10.1 光學常數(shù)的測試
10.2 光學性能的測試
10.3 機械性能的測試
10.4 其他性能的測試
第11章 常用光學薄膜材料
11.1 金屬薄膜
11.2 介質(zhì)薄膜
11.3 特殊材料
附錄
附錄1光學零件鍍膜分類、符號及標注
附錄2光學薄膜元件環(huán)境適應性試驗方法
附錄3光學和光學儀器光學薄膜
附錄4ISO9211-1：2010
附錄5ISO9211-2：2010
附錄6ISO9211-3：2008（E）
附錄7ISO9211-4：2006（E）
術語索引
參考文獻