太赫茲技術(shù)

第1章 緒論
1．1 太赫茲頻譜范圍
1．2 太赫茲研究的歷史
1．2．1 20世紀(jì)早期的研究
1．2．2 1920年-1940年
1．2．3 1940年-1950年
1．2．4 1950年-1960年
1．2．5 1960年-1970年
1．2．6 1970年-1980年
1．2．7 1980年-1990年
1．3 更加關(guān)注太赫茲的原因
第2章 太赫茲頻段的光學(xué)理論
2．1 高斯波束基礎(chǔ)
2．2 高斯波束的傳輸
2．3 葛斯波束的耦合
2．4 材料對(duì)輻射的吸收和諧振效應(yīng)
2．5 物質(zhì)與太赫茲波的非線性相互作用
2．6 偏振光
2．7 斯托克斯參量
2．8 啁啾
第3章 太赫茲光學(xué)器件
3．1 引言
3．2 反射與吸收
3．3 用于透波窗口、濾波器和透鏡的材料
3．3．1 聚乙烯（PE）
3．3．2 聚丙烯（PP）
3．3．3 聚苯乙烯
3．3．4 聚四氟乙烯（PTFE，特氟綸）
3．3．5 聚4-甲基-1-戊烯（PMT，TPX）
3．3．6 Tsurupica（Picarin）
3．3．7 聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯（PET，Mylar）
3．3．8 聚對(duì)二甲苯
3．3．9 熒光金
3．3．10 Zitex
3．3．11 晶態(tài)石英
3．3．12 藍(lán)寶石（Sapphire）
3．3．13 硅（Si）、鍺（Ge）
3．3．14 金剛石
3．3．15 堿鹵化物
3．3．16 KRS-5
3．3．17 材料選擇
3．4 窗口
3．5 濾波器
3．5．1 黑色聚乙烯（PE）吸收濾波器
3．5．2 堿鹵化物濾波器（Yoshinaga濾波器）
3．5．3 散射濾波器
3．5．4 剩余射線濾波器
3．5．5 諧振柵網(wǎng)濾波器
3．5．6 厚金屬平板濾波器
3．5．7 冷濾波器
3．6 抗反射膜層
3．7 透鏡
3．8 反射鏡
3．9 光管
3．10 光匯聚器及Winston錐
3．11 起偏器和偏振態(tài)變換器
3．12 分束器
3．13 衰減器
3．14 吸收器和吸收材料
3．15 透鏡-天線系統(tǒng)
3．16 波導(dǎo)和喇叭天線
3．17 光子帶隙材料和超材料
第4章 太赫茲波源
4．1 引言
4．2 熱發(fā)射
4．3 實(shí)際熱輻射源
4．3．1 碳晶燈
4．3．2 等離子體輻射源
4．4 氣體激光器
4．4．1 電激勵(lì)氣體激光器
4．4．2 光激勵(lì)氣體激光器
4．5 塊狀半導(dǎo)體激光器
4．5．1 鍺激光器
4．5．2 光學(xué)激勵(lì)硅載施主產(chǎn)生激射
4．6 量子級(jí)聯(lián)激光器
4．6．1 運(yùn)轉(zhuǎn)原理
4．6．2 性能
4．7 光混頻產(chǎn)生太赫茲輻射
4．7．1 低溫生長(zhǎng)砷化鎵
4．7．2 肖特基二極管
4．7．3 金屬-絕緣體-金屬二極管
4．7．4 光電二極管
4．8 諧波產(chǎn)生
4．9 返波振蕩器
4．10 Smith-Purcell（史密斯-帕塞爾）源
4．11 回旋管
4．12 基于相對(duì)論電子的太赫茲源
4．12．1 電子儲(chǔ)存環(huán)產(chǎn)生相干同步加速輻射
4．12．2 直線加速器產(chǎn)生相干同步加速輻射
4．12．3 自由電子激光器
4．13 參量振蕩器
第5章 探測(cè)器
5．1 簡(jiǎn)介
5．1．1 探測(cè)器的制冷
5．2 探測(cè)器理論
5．2．1 探測(cè)器參數(shù)
5．2．2 探測(cè)器參數(shù)間的關(guān)系
5．2．3 過(guò)量噪聲來(lái)源
5．3 熱探測(cè)器
5．3．1 高萊探測(cè)器
5．3．2 熱釋探測(cè)器
5．3．3 熱電堆
5．3．4 功率計(jì)
5．3．5 半導(dǎo)體測(cè)輻射熱計(jì)
5．3．6 超導(dǎo)測(cè)輻射熱計(jì)
5．3．7 室溫下的微型測(cè)輻射熱計(jì)
5．4 光電導(dǎo)探測(cè)器
5．4．1 非本征鍺探測(cè)器
5．4．2 銻化銦探測(cè)器
5．4．3 GaAs探測(cè)器
5．4．4 阻止雜志帶探測(cè)器
5．5 外差檢波法
5．5．1 外差檢測(cè)理論
5．5．2 肖特基二極管混頻器
5．5．3 超導(dǎo)體-絕緣體-超導(dǎo)體混頻器
5．5．4 熱電子測(cè)輻射熱計(jì)混頻器
第6章 頻譜研究方法
6．1 引言
6．2 光柵頻譜儀
6．3 傅里葉變換頻譜儀
6．3．1 色散傅里葉變換頻譜儀
6．4 偏振干涉儀（Martin-Puplett干涉儀）
6．5 法布里珀羅（F-P）干涉儀
6．6 時(shí)域頻譜儀
6．6．1 太赫茲脈沖產(chǎn)生和探測(cè)的簡(jiǎn)化模型
6．6．2 應(yīng)用
6．7 相干波源頻譜儀
6．7．1 基于倍頻源的頻譜儀
6．7．2 使用返波振蕩器的頻譜儀
6．7．3 基于可調(diào)諧太赫茲邊帶產(chǎn)生的頻譜學(xué)
6．7．4 基于差頻產(chǎn)生的頻譜學(xué)
6．8 外差頻譜學(xué)
6．8．1 系統(tǒng)方面
6．8．2 后端頻譜儀
6．8．3 外差頻譜儀示例
第7章 太赫茲成像
7．1 引言
7．2 成像基礎(chǔ)
7．3 類相機(jī)成像
7．3．1 對(duì)比度形成
7．3．2 直接探測(cè)器成像
7．3．3 外差成像
7．3．4 三維外差成像
7．4 短距成像
7．4．1 連續(xù)波及長(zhǎng)脈沖波源成像
7．4．2 基于光混頻器的成像
7．4．3 量子級(jí)聯(lián)激光器成像
7．4．4 連續(xù)波源實(shí)時(shí)成像
7．4．5 光譜成像
7．4．6 量子級(jí)聯(lián)激光器的三維成像
7．4．7 時(shí)域光譜成像
7．4．8 基于時(shí)域光譜儀的光譜成像
7．4．9 基于時(shí)域光譜儀的三維成像
7．4．10 時(shí)域光譜儀的實(shí)時(shí)成像
7．5 近場(chǎng)顯微
7．5．1 基于光闌的近場(chǎng)掃描顯微鏡
7．5．2 無(wú)光闌近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡
縮略語(yǔ)
符號(hào)
參考文獻(xiàn)