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晶圓級3D IC工藝技術

晶圓級3D IC工藝技術

定 價:¥88.00

作 者: (新加坡)陳全勝(美)羅納德·J·古特曼(美)L·拉斐爾·賴夫
出版社: 中國宇航出版社
叢編項:
標 簽: 工業(yè)技術 航空/航天

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ISBN: 9787515912035 出版時間: 2016-10-01 包裝: 平裝-膠訂
開本: 32開 頁數(shù): 字數(shù):  

內容簡介

暫缺《晶圓級3D IC工藝技術》簡介

作者簡介

  1單光寶,男,博士生導師,研究員,現(xiàn)為航天九院第二屆杰出青年、航天771所TSV立體集成技術負責人。先后承擔了基礎科研、自然科學基金重點項目、973子課題等多項國家級重點TSV立體集成項目,研制出國內首個輻射加固4層堆疊TSV SRAM樣品,推動軍用存儲器由平面集成向立體集成的跨越發(fā)展。近年來,發(fā)表學術論文30余篇,申請TSV相關發(fā)明專利17項,6項已獲授權。2吳龍勝,總師/研究員,安徽安慶,享受國務院特殊津貼,現(xiàn)為航天科技集團公司學科帶頭人、核高基總體組專家,從事集成電路、3D-IC設計工作。近年來,發(fā)表學術論文40余篇。3劉松,男,博士,陜西西安人,1988年8月出生。主要從事3D IC電學、熱機械應力可靠性研究。近年來,近年來,發(fā)表學術論文近10篇,申請TSV相關發(fā)明專利近10項。

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