美國(guó)專利申請(qǐng)撰寫及審查處理策略

定　價(jià)：￥68.00

作　者：	本杰明，皓普曼著
出版社：	知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社
叢編項(xiàng)：	知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)典譯叢
標(biāo)　簽：	暫缺

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ISBN：	9787513049344	出版時(shí)間：	2017-07-01	包裝：	精裝
開本：	16開	頁數(shù)：	268	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　《美國(guó)專利申請(qǐng)撰寫及審查處理策略》源于PADIAS教程的實(shí)際教學(xué)。從專利申請(qǐng)的第一階段專利撰寫入手，詳細(xì)介紹了專利申請(qǐng)的各個(gè)階段，并對(duì)授權(quán)后程序也做了解釋。本書指導(dǎo)讀者掌握撰寫高質(zhì)量專利申請(qǐng)文件的技巧，指導(dǎo)讀者判斷他人撰寫或翻譯的英文專利的質(zhì)量，指導(dǎo)讀者判斷一份專利申請(qǐng)文件是否公開充分，權(quán)利要求是否恰當(dāng)?shù)乇磉_(dá)了請(qǐng)求保護(hù)的范圍。同時(shí)，書中也涉及審查相關(guān)程序中的各種技巧，如如何答復(fù)關(guān)于單一性限定的審查意見通知書，如何答復(fù)關(guān)于專利性的審查意見通知書，如何處理復(fù)審，以及針對(duì)最后通知書如何做出后續(xù)程序的抉擇。本書還提供了實(shí)用的技巧幫助讀者改進(jìn)與美國(guó)申請(qǐng)人以及美國(guó)律師的溝通。譯者在本書中還補(bǔ)充比較中美兩國(guó)專利申請(qǐng)文件撰寫的異同，對(duì)中國(guó)從業(yè)人員在懂得中國(guó)專利實(shí)踐的基礎(chǔ)上理解美國(guó)專利申請(qǐng)的撰寫和審查有巨大幫助。

作者簡(jiǎn)介

　　BenjaminJ.Hauptman（本杰明·霍普曼），是美國(guó)律師事務(wù)所HauptmanHamLLP的資深合伙人，具有35年專利實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，同時(shí)是NewHampshire法學(xué)院的客座教授，具有十年的教學(xué)經(jīng)驗(yàn)。本杰明·霍普曼根據(jù)多年的專業(yè)實(shí)踐和教學(xué)經(jīng)驗(yàn)，創(chuàng)立PADIAS教程。該教程已在日本、韓國(guó)、中國(guó)廣泛傳授8年之久。KienT.Le（黎建），美國(guó)注冊(cè)專利代理人，美國(guó)皓咸律師事務(wù)所律師。脫穎，獲得美國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)碩士和法學(xué)博士學(xué)位，并具有美國(guó)加州、賓州、華盛頓特區(qū)律師資格、美國(guó)專利律師資格、中國(guó)律師資格和中國(guó)專利代理人資格。其具有豐富的中國(guó)和美國(guó)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)訴訟實(shí)務(wù)經(jīng)驗(yàn)。脫穎律師同時(shí)是中國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)研究會(huì)等多個(gè)協(xié)會(huì)的成員。

圖書目錄

目錄
第一章美國(guó)專利申請(qǐng)的撰寫
第一節(jié) - 入門-權(quán)利要求的撰寫
A.從準(zhǔn)備專利附圖和撰寫權(quán)利要求開始
B.準(zhǔn)備權(quán)利要求樹 - 為什么需要權(quán)利要求樹？
C.在完整權(quán)利要求樹的基礎(chǔ)上撰寫第一稿權(quán)利要求
D.修改第一稿權(quán)利要求
E.使用權(quán)利要求樹撰寫權(quán)利要求 - 總結(jié).
F.類型相同、對(duì)發(fā)明描述不同的權(quán)利要求示例.
G.范圍
H.由方法限定的產(chǎn)品
第二節(jié)- 說明書的撰寫
A.避免使用發(fā)明（“INVENTION”）以及諸如此類的詞語
B.段落標(biāo)題
C.開頭段
D.遵守美國(guó)專利法第112條第一段的規(guī)定
E. 提供充分詳細(xì)的附圖說明使讀者不需要參照附圖想象出所公開的實(shí)施例.
F.定義
G. 結(jié)構(gòu)清楚
H. 術(shù)語
I. 可替代的工作示例
J. 支持范圍以及裝置加功能的限定
K. 避免對(duì)“安全性”的討論
L. 避免/最小化美國(guó)專利法第101條的問題
M. 避免使用絕對(duì)詞
N. 標(biāo)題
O. 交叉引用的陳述
P. 技術(shù)領(lǐng)域
Q. 背景技術(shù)
R. 發(fā)明內(nèi)容（Summary）
S. 附圖及其簡(jiǎn)要說明
T．摘要
第二章專利申請(qǐng)審查處理
第三章高級(jí)審查話題
A.簡(jiǎn)要?dú)v史回顧
B. 用于克服AIA法案之前的美國(guó)專利法第102（a）或102（e）款所規(guī)定的對(duì)比文件的爭(zhēng)辯或者修改
C.KSR案之后的非顯而易見性反駁爭(zhēng)辯
D.繼續(xù)審查請(qǐng)求
E.針對(duì)美國(guó)專利商標(biāo)局的KSR顯而易見性駁回的申請(qǐng)撰寫實(shí)踐技巧.
F.處理美國(guó)專利商標(biāo)局的KSR顯而易見性駁回的審查處理實(shí)踐技巧.
G.分案申請(qǐng)
H.部分繼續(xù)申請(qǐng)
J.上訴前簡(jiǎn)要審查請(qǐng)求
L.最終審查意見之后的實(shí)踐總結(jié)
第四章中國(guó)和美國(guó)專利事務(wù)實(shí)踐的比較和處理技巧
結(jié)語
附錄1 – 圍嘴披露（交底書）
附錄2 –申請(qǐng)撰寫的簡(jiǎn)要檢查清單
測(cè)驗(yàn)答案
編譯者的致謝