現(xiàn)代應(yīng)用光學(xué)

目 錄
第1章 現(xiàn)代應(yīng)用光學(xué)基礎(chǔ)理論概述\t1
1．1 概述\t1
1．1．1 本書的背景\t1
1．1．2 本書的內(nèi)容安排\t1
1．2 光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計中常用的光學(xué)材料特征參數(shù)\t2
1．2．1 光學(xué)材料的光學(xué)參量\t2
1．2．2 熱系數(shù)及溫度變化效應(yīng)的消除\t4
1．2．3 其他玻璃數(shù)據(jù)\t4
1．3 新型光學(xué)材料\t5
1．3．1 新型光學(xué)材料概述\t5
1．3．2 光學(xué)材料發(fā)展概況\t6
1．4 液晶材料及液晶顯示器\t12
1．4．1 液晶材料及其分類\t12
1．4．2 常用液晶顯示器件的基本結(jié)構(gòu)和工作原理\t16
1．4．3 STN-LCD技術(shù)\t27
1．4．4 液晶光閥技術(shù)\t32
1．4．5 硅上液晶（LCoS）反射式顯示器\t36
1．4．6 光計算用SLM\t38
1．5 電光源和光電探測器\t38
1．5．1 電光源\t38
1．5．2 激光器\t41
1．5．3 光電導(dǎo)探測器\t48
1．5．4 光伏探測器\t49
1．5．5 位敏探測器\t53
1．5．6 陣列型光電探測器\t56
1．6 波像差像質(zhì)評價基礎(chǔ)知識\t59
1．6．1 光學(xué)系統(tǒng)像差的坐標(biāo)及符號規(guī)則\t59
1．6．2 無像差成像概念和完善鏡頭聚焦衍射模式\t60
參考文獻\t63
第2章 光學(xué)非球面的應(yīng)用\t67
2．1 概述\t67
2．2 非球面曲面方程\t67
2．2．1 旋轉(zhuǎn)對稱的非球面方程\t67
2．2．2 圓錐曲線的意義\t68
2．2．3 其他常見非球面方程\t70
2．2．4 非球面的法線和曲率\t71
2．3 非球面的初級像差\t71
2．3．1 波像差及其與垂軸像差的關(guān)系\t71
2．3．2 非球面的初級像差\t73
2．3．3 折射錐面軸上物點波像差\t75
2．3．4 折射錐面軸外物點波像差\t76
2．4 微振（perturbed）光學(xué)系統(tǒng)的初級像差計算\t77
2．4．1 偏心（decentered）光學(xué)面\t78
2．4．2 光學(xué)面的傾斜\t80
2．4．3 間隔失調(diào)（despace）面\t81
2．5 兩鏡系統(tǒng)的理論基礎(chǔ)\t82
2．5．1 兩鏡系統(tǒng)的基本結(jié)構(gòu)形式\t82
2．5．2 單色像差的表示式\t82
2．5．3 消像差條件式\t84
2．5．4 常用的兩鏡系統(tǒng)\t85
2．6 二次圓錐曲面及其衍生高次項曲面\t86
2．6．1 消球差的等光程折射非球面\t86
2．6．2 經(jīng)典卡塞格林系統(tǒng)\t87
2．6．3 格里高里系統(tǒng)\t88
2．6．4 只消球差的其他特種情況\t88
2．6．5 R-C（Ritchey-Chrétien）系統(tǒng)及馬克蘇托夫系統(tǒng)\t89
2．6．6 等暈系統(tǒng)的特殊情況\t90
2．6．7 庫特（Cuder）系統(tǒng)及同心系統(tǒng)\t91
2．6．8 史瓦希爾德（Schwarzschield）系統(tǒng)\t92
2．6．9 一個消四種初級像差 的系統(tǒng)\t93
2．6．10 無焦系統(tǒng)\t93
2．7 兩鏡系統(tǒng)的具體設(shè)計過程\t93
2．7．1 R-C系統(tǒng)的設(shè)計\t93
2．7．2 格里高里系統(tǒng)與卡塞格林系統(tǒng)\t94
2．8 施密特光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t95
2．8．1 施密特光學(xué)系統(tǒng)的初級像差\t95
2．8．2 施密特校正器的精確計算法\t98
2．9 三反射鏡系統(tǒng)設(shè)計示例\t99
2．9．1 設(shè)計原則\t99
2．9．2 設(shè)計過程分析\t100
2．9．3 設(shè)計示例\t101
參考文獻\t103
第3章 衍射光學(xué)元件\t105
3．1 概述\t105
3．1．1 菲涅耳圓孔衍射――菲涅耳波帶法\t106
3．1．2 菲涅耳圓孔衍射的特點\t108
3．1．3 菲涅耳圓屏衍射\t109
3．2 波帶片\t110
3．2．1 菲涅耳波帶片\t110
3．2．2 相位型菲涅耳波帶片\t112
3．2．3 條形或方形波帶片\t113
3．3 衍射光學(xué)器件衍射效率\t113
3．3．1 鋸齒形一維相位光柵的衍射效率\t113
3．3．2 臺階狀（二元光學(xué)）相位光柵的衍射效率及其計算\t114
3．4 通過衍射面的光線光路計算\t115
3．5 衍射光學(xué)系統(tǒng)初級像差\t118
3．5．1 衍射光學(xué)透鏡的單色初級像差特性\t118
3．5．2 折衍混合成像系統(tǒng)中衍射結(jié)構(gòu)的高折射率模型及PWC描述\t121
3．5．3 P∞、W∞、C與折衍混合單透鏡結(jié)構(gòu)的函數(shù)關(guān)系\t122
3．6 折衍光學(xué)透鏡的色散性質(zhì)及色差的校正\t123
3．6．1 折衍光學(xué)透鏡的等效阿貝數(shù)ν\t123
3．6．2 用DOL實現(xiàn)消色差\t124
3．6．3 折衍光學(xué)透鏡的部分色散及二級光譜的校正\t125
3．7 衍射透鏡的熱變形特性\t127
3．7．1 光熱膨脹系數(shù)\t127
3．7．2 消熱變形光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計\t129
3．7．3 折衍混合系統(tǒng)消熱差系統(tǒng)設(shè)計示例\t130
3．8 衍射面的相位分布函數(shù)\t132
3．8．1 用于平衡像差的衍射面的相位分布函數(shù)\t132
3．8．2 用于平衡熱像差的衍射面的相位分布函數(shù)\t133
3．9 多層衍射光學(xué)元件（multi-layer diffractive optical elements）\t133
3．9．1 多層衍射光學(xué)元件的理論分析\t134
3．9．2 多層衍射光學(xué)元件的結(jié)構(gòu)\t134
3．9．3 多層衍射光學(xué)元件材料的選擇\t134
3．9．4 多層衍射光學(xué)元件的衍射效率\t135
3．9．5 多層衍射光學(xué)元件在成像光學(xué)系統(tǒng)中的應(yīng)用舉例\t136
3．10 諧衍射透鏡（HDL）及其成像特點\t137
3．10．1 諧衍射透鏡\t137
3．10．2 諧衍射透鏡的特點\t137
3．10．3 單片諧衍射透鏡成像\t138
3．10．4 諧衍射/折射太赫茲多波段成像系統(tǒng)設(shè)計示例\t139
3．11 衍射光學(xué)軸錐鏡（簡稱衍射軸錐鏡）\t143
3．11．1 衍射軸錐鏡\t143
3．11．2 設(shè)計原理和方法\t144
參考文獻\t150
第4章 非對稱光學(xué)系統(tǒng)像差理論\t153
4．1 波像差與Zernike多項式概述\t153
4．1．1 波前像差理論概述\t153
4．1．2 角向、橫向和縱向像差\t154
4．1．3 Seidel像差的波前像差表示\t155
4．1．4 澤尼克（Zernike）多項式\t162
4．1．5 條紋（fringe）Zernike系數(shù)\t164
4．1．6 波前像差的綜合評價指標(biāo)\t165
4．1．7 色差\t167
4．1．8 典型光學(xué)元件的像差特性\t167
4．2 非對稱旋轉(zhuǎn)成像光學(xué)系統(tǒng)中像差理論\t174
4．2．1 重要概念簡介\t174
4．2．2 傾斜非球面光學(xué)面處理\t176
4．2．3 局部坐標(biāo)系統(tǒng)（LCS）近軸光方法計算單個光學(xué)面像差場中心\t176
4．2．4 OAR的參數(shù)化\t179
4．2．5 傾斜和偏心的光學(xué)面的定位像差場對稱中心矢量（像差場偏移量的推導(dǎo)）\t181
4．2．6 基于實際光線計算單個面的像差場中心\t182
4．2．7 失調(diào)光學(xué)系統(tǒng)的波像差表示式\t183
4．2．8 舉例：LCS近軸計算與其實際光線等價計算的比較\t185
4．3 近圓光瞳非對稱光學(xué)系統(tǒng)三級像差的描述\t187
4．3．1 光學(xué)系統(tǒng)的像差場為各個面的貢獻之和\t187
4．3．2 帶有近圓光瞳的非旋轉(zhuǎn)對稱光學(xué)系統(tǒng)中的三級像差\t187
4．3．3 節(jié)點像差場\t191
4．3．4 波前誤差以及光線的橫向像差\t194
4．3．5 非對稱光學(xué)系統(tǒng)中的三級畸變\t195
4．4 非旋轉(zhuǎn)對稱光學(xué)系統(tǒng)的多節(jié)點五級像差：球差\t197
4．4．1 非旋轉(zhuǎn)對稱光學(xué)系統(tǒng)像差概述\t197
4．4．2 非旋轉(zhuǎn)對稱光學(xué)系統(tǒng)的五級像差\t198
4．4．3 五級像差的特征節(jié)點行為：球差族包括的各項\t199
參考文獻\t203
第5章 光學(xué)自由曲面的應(yīng)用\t205
5．1 光學(xué)自由曲面概述\t205
5．2 參數(shù)曲線和曲面\t206
5．2．1 曲線和曲面的參數(shù)表示\t206
5．2．2 參數(shù)曲線的代數(shù)和幾何形式\t210
5．3 Bézier曲線與曲面\t212
5．3．1 Bézier曲線的數(shù)學(xué)描述和性質(zhì)\t212
5．3．2 Bézier曲面\t215
5．4 B樣條（B-spline）曲線與曲面\t217
5．4．1 B樣條曲線的數(shù)學(xué)描述和性質(zhì)\t217
5．4．2 B樣條曲線的性質(zhì)\t219
5．4．3 B樣條曲面的表示\t220
5．5 雙三次均勻B樣條曲面\t221
5．5．1 B 樣條曲面\t221
5．5．2 雙三次均勻B樣條曲面的矩陣公式\t223
5．6 非均勻有理B樣條（NURBS）曲線與曲面\t224
5．6．1 NURBS曲線與曲面\t224
5．6．2 NURBS曲線的定義\t224
5．6．3 NURBS表示\t226
5．6．4 非均勻有理B樣條曲面\t228
5．7 Coons曲面\t229
5．7．1 基本概念\t229
5．7．2 雙線性Coons曲面\t230
5．7．3 雙三次Coons曲面\t231
5．8 自由曲面棱鏡光學(xué)系統(tǒng)\t232
5．8．1 自由曲面棱鏡概述\t232
5．8．2 矢量像差理論及初始結(jié)構(gòu)確定方法\t233
5．8．3 自由曲面棱鏡設(shè)計\t236
5．8．4 用光學(xué)設(shè)計軟件設(shè)計含自由曲面的光學(xué)系統(tǒng)\t238
參考文獻\t239
第6章 共形光學(xué)系統(tǒng)\t241
6．1 概述\t241
6．1．1 共形光學(xué)系統(tǒng)的一般要求\t241
6．1．2 共形光學(xué)系統(tǒng)的主要參量\t244
6．1．3 共形光學(xué)系統(tǒng)中的像差校正\t250
6．1．4 共形光學(xué)系統(tǒng)實際應(yīng)用須考慮的問題\t252
6．2 橢球整流罩的幾何特性及消像差條件在共形光學(xué)系統(tǒng)中的應(yīng)用\t253
6．2．1 橢球面幾何特性分析\t253
6．2．2 橢球整流罩的幾何特性\t256
6．2．3 利用矢量像差理論分析橢球整流罩結(jié)構(gòu)的像差特性\t258
6．3 基于Wassermann-Wolf方程的共形光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t259
6．3．1 共形光學(xué)系統(tǒng)解決像差動態(tài)變化的方法概述\t259
6．3．2 共形光學(xué)系統(tǒng)的像差分析\t260
6．3．3 Wassermann-Wolf非球面理論\t261
6．3．4 利用Wassermann-Wolf原理設(shè)計共形光學(xué)系統(tǒng)\t265
6．4 折/反射橢球形整流罩光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計\t268
6．4．1 折/反射橢球形整流罩光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計原則\t269
6．4．2 橢球形整流罩像差分析\t269
6．4．3 兩鏡校正系統(tǒng)初始結(jié)構(gòu)設(shè)計原理\t269
6．4．4 用平面對稱矢量像差理論分析光學(xué)系統(tǒng)像差特性\t274
6．4．5 設(shè)計結(jié)果\t275
6．5 共形光學(xué)系統(tǒng)的動態(tài)像差校正技術(shù)\t276
6．5．1 共形光學(xué)系統(tǒng)的固定校正器\t276
6．5．2 弧形校正器\t278
6．5．3 基于軸向移動柱面―澤尼克校正元件的動態(tài)像差校正技術(shù)\t280
6．6 二元光學(xué)元件在橢球整流罩導(dǎo)引頭光學(xué)系統(tǒng)中的應(yīng)用\t283
6．6．1 二元光學(xué)元件的光學(xué)特性\t284
6．6．2 二元衍射光學(xué)元件在橢球形整流罩導(dǎo)引頭光學(xué)系統(tǒng)中的應(yīng)用\t286
6．6．3 利用衍/射光學(xué)元件進行共形整流罩像差校正的研究\t288
6．6．4 折/衍混合消熱差共形光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計\t291
6．7 利用自由曲面進行微變焦共形光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t295
6．7．1 自由曲面進行微變焦共形光學(xué)系統(tǒng)的特點\t295
6．7．2 利用自由曲面的像差校正方法\t295
6．8 基于實際光線追跡的共形光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計概述\t298
6．8．1 實際光線追跡設(shè)計方法可在共形光學(xué)系統(tǒng)整個觀察視場內(nèi)得到較好像質(zhì)\t298
6．8．2 實際光線追跡方法概述\t299
參考文獻\t302
第7章 非成像光學(xué)系統(tǒng)\t308
7．1 引言\t308
7．1．1 太陽能熱發(fā)電技術(shù)簡介\t308
7．1．2 太陽能光伏發(fā)電\t311
7．1．3 照明非成像光學(xué)\t312
7．2 非成像光學(xué)概述\t314
7．2．1 非成像會聚器特性\t314
7．2．2 光學(xué)擴展不變量\t314
7．2．3 會聚度的定義\t315
7．3 會聚器理論中的一些幾何光學(xué)概念\t316
7．3．1 光學(xué)擴展量的幾何光學(xué)概念\t316
7．3．2 在成像光學(xué)系統(tǒng)中像差對會聚度的影響\t317
7．3．3 光學(xué)擴展量（拉氏不變量）和相空間的廣義概念\t318
7．3．4 斜不變量\t320
7．4 非成像光學(xué)的邊緣光線原理\t322
7．4．1 邊緣光線原理\t322
7．4．2 邊緣光線原理應(yīng)用――“拉線”方法\t322
7．5 復(fù)合拋物面會聚器（CPC）\t324
7．5．1 光錐會聚器\t324
7．5．2 復(fù)合拋物面會聚器（CPC）概述\t324
7．5．3 復(fù)合拋物面會聚器的性質(zhì)\t326
7．5．4 增加復(fù)合拋物面會聚器的最大會聚角\t328
7．6 同步多曲面設(shè)計方法\t331
7．6．1 SMS方法設(shè)計會聚器概述\t331
7．6．2 一個非成像透鏡的設(shè)計：RR會聚器\t332
7．6．3 XR會聚器\t335
7．6．4 RX會聚器\t337
7．7 XX類會聚器\t340
7．7．1 XX類會聚器的原理\t340
7．7．2 RX1會聚器\t341
7．7．3 RX1會聚器的三維分析\t341
7．8 非成像光學(xué)用于LED照明\t343
7．8．1 邊緣光線擴展度守恒原理和控制網(wǎng)格算法\t344
7．8．2 LED的非成像光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計實例\t346
7．8．3 大范圍照明光源設(shè)計（二維給定光分布設(shè)計）\t347
7．9 非成像光學(xué)用于LED均勻照明的自由曲面透鏡\t348
7．9．1 均勻照明的自由曲面透鏡概述\t348
7．9．2 LED浸沒式自由曲面透鏡設(shè)計方法\t349
7．9．3 設(shè)計示例\t351
參考文獻\t353
第8章 光電光學(xué)系統(tǒng)中緊湊型照相光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t356
8．1 概述\t356
8．1．1 數(shù)碼相機的組成\t356
8．1．2 數(shù)碼相機中圖像傳感器CCD和CMOS的比較\t357
8．1．3 數(shù)碼相機的分類\t359
8．1．4 數(shù)碼相機的光學(xué)性能\t364
8．1．5 數(shù)碼相機鏡頭的分類和特點\t365
8．2 數(shù)碼相機鏡頭設(shè)計示例\t367
8．2．1 球面定焦距鏡頭設(shè)計示例\t367
8．2．2 非球面定焦距鏡頭設(shè)計示例\t370
8．3 變焦距鏡頭設(shè)計示例\t372
8．3．1 變焦透鏡組原理\t373
8．3．2 非球面變倍鏡頭初始數(shù)據(jù)\t373
8．3．3 折疊式（潛望式）變焦鏡頭示例\t376
8．4 手機照相光學(xué)系統(tǒng)\t378
8．4．1 手機照相光學(xué)系統(tǒng)概述\t378
8．4．2 兩片型非球面手機物鏡設(shè)計示例\t379
8．4．3 三片型手機物鏡設(shè)計\t382
8．5 手機鏡頭新技術(shù)概述\t385
8．5．1 自由曲面在手機鏡頭中的應(yīng)用\t385
8．5．2 液體鏡頭\t385
8．6 魚眼鏡頭概述\t388
8．6．1 魚眼鏡頭是“仿生學(xué)的示例”\t388
8．6．2 魚眼鏡頭基本結(jié)構(gòu)的像差校正\t390
8．6．3 魚眼鏡頭基本光學(xué)結(jié)構(gòu)的演變\t391
8．6．4 魚眼鏡頭的發(fā)展\t391
8．6．5 魚眼鏡頭的光學(xué)性能\t393
8．6．6 光闌球差與入瞳位置的確定\t396
8．6．7 光闌彗差與像差漸暈\t398
8．6．8 魚眼鏡頭示例與投影方式比較\t399
參考文獻\t402
第9章 光學(xué)系統(tǒng)焦深的擴展與衍射極限的突破\t405
9．1 概述\t405
9．1．1 擴展焦深概述\t405
9．1．2 超衍射極限近場顯微術(shù)概述\t409
9．1．3 遠場超分辨成像\t418
9．2 光學(xué)成像系統(tǒng)景深的延拓\t420
9．2．1 景深延拓概述\t420
9．2．2 延拓景深的方形孔徑相位模板\t425
9．2．3 增大景深的圓對稱相位模板\t438
9．3 多環(huán)分區(qū)圓對稱相位模板設(shè)計\t442
9．3．1 多環(huán)分區(qū)圓對稱相位模板的概念\t442
9．3．2 多環(huán)分區(qū)圓對稱相位模板對應(yīng)系統(tǒng)的特性\t448
9．3．3 圓對稱相位模板成像系統(tǒng)的優(yōu)缺點\t450
9．3．4 初級像差的影響以及延拓景深圖像的復(fù)原\t451
9．3．5 延拓景深相位模板系統(tǒng)的圖像復(fù)原與其光學(xué)成像系統(tǒng)的光學(xué)設(shè)計\t456
9．3．6 延拓景深光學(xué)成像系統(tǒng)的光學(xué)設(shè)計\t460
9．4 軸錐鏡（axicon）擴展焦深\t468
9．4．1 軸錐鏡\t468
9．4．2 小焦斑長焦深激光焦點的衍射軸錐鏡的設(shè)計\t476
9．5 近場光學(xué)與近場光學(xué)顯微鏡\t478
9．5．1 近場光學(xué)概念\t478
9．5．2 近場掃描光學(xué)顯微鏡（NSOM）\t482
9．6 掃描探針顯微鏡\t488
9．6．1 與隧道效應(yīng)有關(guān)的顯微鏡\t489
9．6．2 原子力顯微鏡（AFM）\t491
9．6．3 掃描力顯微鏡（SFM）\t495
9．6．4 檢測材料不同組分的SFM技術(shù)\t498
9．6．5 光子掃描隧道顯微鏡（PSTM）\t499
9．7 原子力顯微鏡\t504
9．7．1 原子力顯微鏡的基本組成\t504
9．7．2 近場力\t505
9．7．3 微懸臂力學(xué)\t507
9．7．4 AFM探測器信號\t508
9．7．5 原子力顯微鏡的測量模式\t509
9．7．6 原子力顯微鏡檢測成像技術(shù)\t512
9．7．7 AFM的優(yōu)點和正在改進之處\t513
9．7．8 電力顯微鏡（EFM）\t513
9．8 遠場超高分辨率顯微術(shù)\t516
9．8．1 遠場超高分辨率顯微術(shù)概述\t516
9．8．2 4Pi顯微鏡\t517
9．8．3 3D隨機光學(xué)重建顯微鏡（STORM）\t519
9．8．4 平面光顯微鏡（SPIM）基本原理\t520
9．8．5 福斯特共振能量轉(zhuǎn)移顯微鏡（FRETM）\t521
9．8．6 全內(nèi)反射熒光顯微鏡（TIRFM）\t522
9．9 衍射光學(xué)組件用于掃描雙光子顯微鏡的景深擴展\t524
9．9．1 遠場超分辨顯微鏡擴展焦深概述\t524
9．9．2 擴展焦深顯微光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t525
9．9．3 掃描雙光子顯微成像系統(tǒng)的擴展景深實驗\t528
參考文獻\t532
第10章 自適應(yīng)光學(xué)技術(shù)應(yīng)用概述\t542
10．1 引言\t542
10．1．1 自適應(yīng)光學(xué)技術(shù)的發(fā)展\t542
10．1．2 自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)\t544
10．1．3 自適應(yīng)光學(xué)應(yīng)用技術(shù)\t545
10．1．4 自適應(yīng)光學(xué)在相控陣系統(tǒng)中的應(yīng)用\t547
10．1．5 高能激光相控陣系統(tǒng)簡介\t549
10．2 自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)原理\t553
10．2．1 自適應(yīng)光學(xué)概念\t553
10．2．2 共光路/共模塊自適應(yīng)光學(xué)原理及衍生光路\t557
10．3 自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)的基本組成原理和應(yīng)用\t569
10．3．1 波前傳感器\t569
10．3．2 波前校正器\t578
10．3．3 波前控制器及控制算法\t584
10．3．4 激光導(dǎo)星原理及系統(tǒng)\t589
10．4 天文望遠鏡及其自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)\t601
10．4．1 2．16 m望遠鏡及其自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)\t601
10．4．2 37單元自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)\t608
10．4．3 1．2 m望遠鏡61單元自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)\t612
10．5 鎖相光纖準(zhǔn)直器的自適應(yīng)陣列實驗系統(tǒng)\t620
10．5．1 概述\t620
10．5．2 光纖準(zhǔn)直器的自適應(yīng)陣列中的反饋控制\t626
10．6 陣列光束優(yōu)化式自適應(yīng)光學(xué)的原理與算法\t631
10．6．1 光學(xué)相控陣技術(shù)基本概念\t631
10．6．2 優(yōu)化算法自適應(yīng)光學(xué)\t633
10．6．3 陣列光束優(yōu)化式自適應(yīng)光學(xué)的原理與發(fā)展\t634
10．6．4 陣列光束優(yōu)化式自適應(yīng)光學(xué)算法\t635
10．7 自適應(yīng)光學(xué)技術(shù)在自由空間光通信中的應(yīng)用\t642
10．7．1 自由空間光通信概述\t642
10．7．2 自由空間光通信系統(tǒng)概述\t643
10．7．3 一些自由空間光通信的示例\t649
10．7．4 自適應(yīng)光學(xué)結(jié)合脈沖位置調(diào)制（PPM）改善光通信性能\t653
10．7．5 無波前傳感自適應(yīng)光學(xué)（AO）系統(tǒng)\t656
10．8 自由空間激光通信終端系統(tǒng)原理\t659
10．8．1 終端系統(tǒng)結(jié)構(gòu)和工作原理\t659
10．8．2 激光收發(fā)子系統(tǒng)\t660
10．8．3 捕獲跟蹤瞄準(zhǔn)（ATP）子系統(tǒng)\t662
10．8．4 光學(xué)平臺子系統(tǒng)\t662
10．8．5 衛(wèi)星終端系統(tǒng)概述\t666
10．8．6 基于自適應(yīng)光學(xué)技術(shù)的星載終端光學(xué)系統(tǒng)方案示例\t673
10．9 自適應(yīng)光學(xué)技術(shù)的其他典型應(yīng)用舉例\t675
10．9．1 自適應(yīng)光學(xué)技術(shù)在慣性約束聚變技術(shù)中的應(yīng)用概述\t675
10．9．2 自適應(yīng)光學(xué)用于月球激光測距\t679
10．9．3 自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)在戰(zhàn)術(shù)激光武器中的應(yīng)用簡介\t682
10．9．4 自適應(yīng)光學(xué)在醫(yī)學(xué)眼科成像中的應(yīng)用\t689
參考文獻\t696
第11章 微納投影光刻技術(shù)導(dǎo)論\t711
11．1 引言\t711
11．2 光刻離軸照明技術(shù)\t717
11．3 投影光刻掩模誤差補償\t721
11．4 投影光刻相移掩模\t728
11．5 電子投影光刻（EPL）\t735
11．6 離子束曝光技術(shù)\t750
11．7 納米壓印光刻（NIL）技術(shù)\t754
參考文獻\t761
第12章 投影光刻物鏡\t769
12．1 概述\t769
12．1．1 光刻技術(shù)簡介\t769
12．1．2 提高光刻機性能的關(guān)鍵技術(shù)\t769
12．1．3 ArF光刻機研發(fā)進展\t771
12．1．4 下一代光刻技術(shù)的研究進展\t772
12．2 投影光刻物鏡的光學(xué)參量\t772
12．2．1 投影光刻物鏡的光學(xué)特征\t772
12．2．2 工作波長與光學(xué)材料\t774
12．3 投影光刻物鏡結(jié)構(gòu)形式\t784
12．3．1 折射式投影物鏡結(jié)構(gòu)形式\t784
12．3．2 折射式光刻投影物鏡\t785
12．3．3 深紫外（DUV）投影光刻物鏡設(shè)計要求\t786
12．3．4 深紫外（DUV）非球面的投影光刻物鏡\t786
12．3．5 光闌移動對投影光刻物鏡尺寸的影響\t787
12．4 光刻物鏡的像質(zhì)評價\t788
12．4．1 波像差與分辨率\t788
12．4．2 基于Zernike多項式的波像差分解\t791
12．4．3 條紋Zernike多項式的不足與擴展\t794
12．5 運動學(xué)安裝機理與物鏡像質(zhì)精修\t795
12．5．1 運動學(xué)安裝機理\t795
12．5．2 物鏡像質(zhì)精修\t796
12．5．3 投影光刻物鏡的像質(zhì)補償\t796
12．6 進一步擴展NA\t801
12．6．1 用Rayleigh公式中的因子擴展NA\t801
12．6．2 非球面的引入\t802
12．6．3 反射光學(xué)元件的引入\t802
12．6．4 兩次曝光或兩次圖形曝光技術(shù)\t803
12．7 浸沒式光刻技術(shù)\t803
12．7．1 浸沒式光刻的原理\t803
12．7．2 浸沒液體\t804
12．7．3 浸沒式大數(shù)值孔徑投影光刻物鏡\t805
12．7．4 偏振光照明\t806
12．7．5 投影光刻物鏡的將來趨勢\t808
12．8 極紫外（EUV）光刻系統(tǒng)\t810
12．8．1 極紫外（EUV）光源\t810
12．8．2 EUVL（extreme ultraviolet lithography）投影光刻系統(tǒng)的主要技術(shù)要求\t813
12．8．3 兩鏡EUV投影光刻物鏡\t815
12．8．4 ETS 4鏡原型機\t819
12．9 EUVL6鏡投影光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t820
12．9．1 非球面6鏡投影光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)\t820
12．9．2 分組設(shè)計法――漸進式優(yōu)化設(shè)計6片（22 nm技術(shù)節(jié)點）
反射式非球面投影光刻物鏡\t821
12．9．3 EUVL照明系統(tǒng)設(shè)計要求\t825
12．10 鞍點構(gòu)建方法用于光刻物鏡設(shè)計\t827
12．10．1 構(gòu)建鞍點的價值函數(shù)的基本性質(zhì)\t827
12．10．2 鞍點構(gòu)建\t828
12．10．3 DUV光刻物鏡的樞紐\t830
12．10．4 深紫外（DUV）光刻物鏡設(shè)計舉例\t832
12．10．5 用鞍點構(gòu)建方法設(shè)計EUV投影光刻系統(tǒng)\t835
12．10．6 極紫外（EUV）光刻物鏡舉例\t836
12．10．7 鞍點構(gòu)建設(shè)計方法中加入非球面設(shè)計概述\t837
參考文獻\t840
第13章 表面等離子體納米光子學(xué)應(yīng)用\t850
13．1 表面等離子體概述\t850
13．1．1 表面等離子體相關(guān)概念\t850
13．1．2 表面等離子體激發(fā)方式\t852
13．2 SPP產(chǎn)生條件和色散關(guān)系\t854
13．2．1 電荷密度波（CWD）與激發(fā)SPP的條件\t854
13．2．2 介電質(zhì)/金屬結(jié)構(gòu)中典型的SPP色散曲線\t856
13．3 SPP的特征長度\t858
13．3．1 概述\t858
13．3．2 SPP的波長λSPP\t859
13．3．3 SPP的傳播距離δSPP\t860
13．3．4 實驗\t862
13．3．5 SPP場的穿透深度δd和δm\t863
13．4 SPP的透射增強\t864
13．4．1 透射增強\t864
13．4．2 圍繞單孔的同心環(huán)槽狀結(jié)構(gòu)\t865
13．4．3 平行于單狹縫的對稱線性槽陣列\(zhòng)t866
13．5 突破衍射極限的超高分辨率成像和銀超透鏡的超衍射極限成像\t867
13．5．1 超透鏡的構(gòu)成\t867
13．5．2 銀超透鏡\t868
13．5．3 銀超透鏡成像實驗\t869
13．6 SPP納米光刻技術(shù)\t870
13．6．1 表面等離子體共振干涉納米光刻技術(shù)\t870
13．6．2 基于背面曝光的無掩模表面等離子體激元干涉光刻\t871
13．6．3 在納米球―金屬表面系統(tǒng)中激發(fā)間隙模式用于亞30 nm表面等離子體激元光刻\t873
13．6．4 用介電質(zhì)―金屬多層結(jié)構(gòu)等離子體干涉光刻\t875
13．7 高分辨率并行寫入無掩模等離子體光刻\t879
13．7．1 無掩模等離子體光刻概述\t879
13．7．2 傳播等離子體（PSP）和局域等離子體（LSP）\t879
13．7．3 納米等離子體光刻漸進式多階聚焦方案\t880
參考文獻\t885
第14章 干涉技術(shù)與光電系統(tǒng)\t892
14．1 概述\t892
14．1．1 經(jīng)典干涉理論\t892
14．1．2 光的相干性\t893
14．1．3 常用的激光器及其相干性\t894
14．2 傳統(tǒng)干涉儀的光學(xué)結(jié)構(gòu)\t897
14．2．1 邁克爾遜（Michelson）干涉儀\t897
14．2．2 斐索（Fizeau）干涉儀\t898
14．2．3 泰曼-格林（Twyman-Green）干涉儀\t899
14．2．4 雅敏（Jamin）干涉儀\t900
14．2．5 馬赫-曾德（Mach-Zehnder）干涉儀\t901
14．3 激光干涉儀的光學(xué)結(jié)構(gòu)\t901
14．3．1 激光偏振干涉儀\t902
14．3．2 激光外差干涉儀\t904
14．3．3 半導(dǎo)體激光干涉儀光學(xué)系統(tǒng)\t906
14．3．4 激光光柵干涉儀光學(xué)系統(tǒng)\t907
14．3．5 激光多波長干涉儀\t912
14．3．6 紅外激光干涉儀\t916
14．3．7 雙頻激光干涉儀\t919
14．4 波面與波形干涉系統(tǒng)光學(xué)結(jié)構(gòu)\t921
14．4．1 棱鏡透鏡干涉儀光學(xué)系統(tǒng)\t922
14．4．2 波前剪切干涉儀\t923
14．4．3 三光束干涉儀與多光束干涉儀\t926
14．4．4 數(shù)字波面干涉系統(tǒng)\t928
14．4．5 錐度的干涉測量光學(xué)結(jié)構(gòu)\t930
14．5 表面微觀形貌的干涉測量系統(tǒng)\t931
14．5．1 相移干涉儀光學(xué)結(jié)構(gòu)\t931
14．5．2 鎖相干涉儀光學(xué)結(jié)構(gòu)\t931
14．5．3 干涉顯微系統(tǒng)光學(xué)結(jié)構(gòu)\t933
14．5．4 雙焦干涉顯微鏡光學(xué)結(jié)構(gòu)\t936
14．6 亞納米檢測干涉光學(xué)系統(tǒng)\t937
14．6．1 零差檢測干涉系統(tǒng)\t937
14．6．2 外差檢測干涉系統(tǒng)\t939
14．6．3 自混頻檢測系統(tǒng)\t940
14．6．4 自適應(yīng)檢測系統(tǒng)\t942
14．7 X射線干涉儀系統(tǒng)光學(xué)結(jié)構(gòu)\t943
14．7．1 X射線干涉儀的特點\t943
14．7．2 X射線干涉儀的原理\t944
14．7．3 X射線干涉儀的應(yīng)用\t944
14．8 瞬態(tài)光電干涉系統(tǒng)\t945
14．8．1 瞬態(tài)干涉光源\t945
14．8．2 序列脈沖激光的高速記錄\t946
14．9 數(shù)字全息干涉儀光學(xué)結(jié)構(gòu)\t948
14．10 光纖干涉光學(xué)系統(tǒng)\t952
14．10．1 光纖干涉基本原理\t952
14．10．2 光纖干涉光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)\t952
14．10．3 Sagnac干涉儀：光纖陀螺儀和激光陀螺儀\t957
14．10．4 微分干涉儀光學(xué)結(jié)構(gòu)\t959
14．10．5 全保偏光纖邁克爾遜干涉儀光學(xué)結(jié)構(gòu)\t961
14．10．6 三光束光纖干涉儀光學(xué)結(jié)構(gòu)\t962
14．10．7 全光纖白光干涉儀光學(xué)結(jié)構(gòu)\t963
14．10．8 相位解調(diào)技術(shù)\t965
參考文獻\t969
第15章 光電光譜儀與分光光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t972
15．1 光譜與光譜分析概述\t972
15．1．1 光譜的形成和特點\t972
15．1．2 光譜儀器\t975
15．1．3 光譜分析\t977
15．2 光電光譜儀器的色散系統(tǒng)\t978
15．2．1 棱鏡系統(tǒng)\t978
15．2．2 平面衍射光柵\t983
15．2．3 凹面衍射光柵\t989
15．2．4 階梯光柵\t992
15．3 光電光譜儀器的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t993
15．3．1 常用的光譜儀器光學(xué)系統(tǒng)\t993
15．3．2 光譜儀器光學(xué)系統(tǒng)的初級像差\t994
15．3．3 光譜儀器光學(xué)系統(tǒng)的像差校正\t997
15．3．4 反射式準(zhǔn)直和成像系統(tǒng)的像差\t998
15．3．5 常用平面光柵裝置類型\t1001
15．3．6 凹面光柵光譜裝置光學(xué)系統(tǒng)\t1007
15．4 典型光電光譜儀器光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t1008
15．4．1 攝譜儀和光電直讀光譜儀光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t1008
15．4．2 單色儀和分光光度計光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t1015
15．4．3 干涉光譜儀光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t1027
15．5 激光光譜儀光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t1030
15．5．1 激光光譜儀\t1030
15．5．2 傅里葉變換光譜儀光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t1032
15．5．3 光譜成像儀光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計\t1039
參考文獻\t1042
第16章 光波的偏振態(tài)及其應(yīng)用\t1043
16．1 光波的偏振態(tài)\t1043
16．1．1 橢圓偏振電磁場\t1044
16．1．2 線偏振和圓偏振電磁場\t1045
16．1．3 偏振光的描述\t1046
16．1．4 偏振光的分解\t1051
16．1．5 瓊斯矩陣與穆勒矩陣（Mueller matrix）\t1052
16．2 偏振光學(xué)元件\t1056
16．2．1 偏振片\t1056
16．2．2 偏振棱鏡\t1062
16．2．3 退偏器\t1067
16．3 偏振棱鏡設(shè)計與應(yīng)用示例\t1070
16．3．1 偏振耦合測試系統(tǒng)中偏振棱鏡的設(shè)計\t1070
16．3．2 高透射比偏光棱鏡\t1073
16．3．3 高功率YVO4晶體偏振棱鏡\t1075
16．4 相位延遲器\t1077
16．4．1 相位延遲器概述\t1077
16．4．2 雙折射型消色差相位延遲器\t1078
16．4．3 全反射型消色差相位延遲器原理\t1080
16．5 偏振光學(xué)用于水下成像\t1085
16．5．1 斯托克斯（Stokes）矢量法\t1085
16．5．2 水下偏振圖像采集光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計\t1088
16．5．3 斯托克斯圖像的測量方案\t1091
16．6 橢圓偏振薄膜測厚技術(shù)\t1095
16．6．1 薄膜測量方法概述\t1095
16．6．2 橢偏測量技術(shù)的特點和原理\t1096
16．6．3 橢偏測量系統(tǒng)類型\t1097
16．6．4 干涉式橢偏測量技術(shù)\t1100
16．6．5 外差干涉橢圓偏振測量原理及光學(xué)系統(tǒng)\t1102
16．6．6 外差橢偏測量儀\t1106
16．7 基于斯托克斯矢量的偏振成像儀器\t1109
16．7．1 斯托克斯矢量偏振成像儀器概述\t1109
16．7．2 多角度偏振輻射計\t1114
16．8 共模抑制干涉及其應(yīng)用\t1118
16．8．1 共模抑制干涉技術(shù)概述\t1118
16．8．2 偏振光在零差激光干涉儀中的應(yīng)用\t1122
16．8．3 利用偏振干涉原理測量表面粗糙度的方法\t1126
16．8．4 光功率計分辨率對測量結(jié)果的影響\t1130
16．8．5 在線測量表面粗糙度的共光路激光外差干涉儀\t1132
參考文獻\t1134