外觀設(shè)計專利申請實用手冊

第一部分 申請外觀設(shè)計專利前的準(zhǔn)備
第1章 申請外觀設(shè)計專利的條件
1.1 是否申請專利的決策
1.2 如何選擇申請時機
1.3 如何選擇申請國家
第二部分 各國外觀設(shè)計專利制度概述
第2章 《巴黎公約》與海牙體系概述
2.1 《巴黎公約》制度簡介
2.2 海牙體系制度簡介
第3章 美國外觀設(shè)計專利制度概述
3.1 制度簡介
3.2 申請概要
3.3 優(yōu)先權(quán)制度
第4章 日本外觀設(shè)計專利制度概述
4.1 制度簡介
4.2 申請概要
4.3 優(yōu)先權(quán)制度
4.4 局部外觀設(shè)計保護(hù)制度
4.5 關(guān)聯(lián)外觀設(shè)計申請制度
4.6 秘密外觀設(shè)計制度
4.7 轉(zhuǎn)換專利申請類型制度
4.8 其他特色制度
第5章 歐盟外觀設(shè)計專利制度概述
5.1 制度簡介
5.2 申請概要
5.3 延期公布
5.4 優(yōu)先權(quán)制度
第6章 韓國外觀設(shè)計專利制度概述
6.1 制度簡介
6.2 申請概要
6.3 優(yōu)先權(quán)制度
6.4 成套產(chǎn)品合案申請制度
6.5 重新確定申請日制度
6.6 關(guān)聯(lián)外觀設(shè)計制度
6.7 保密外觀設(shè)計制度
6.8 特殊規(guī)定
第7章 德國外觀設(shè)計專利制度概述
7.1 制度簡介
7.2 申請概要
第8章 法國外觀設(shè)計專利制度概述
8.1 制度簡介
8.2 申請概要
第9章 英國外觀設(shè)計專利制度概述
9.1 制度簡介
9.2 申請概要
第10章 小結(jié)
第三部分 外觀設(shè)計專利申請實務(wù)
第11章 視圖提交方式
11.1 中國對視圖提交方式的要求
11.2 美國對視圖提交方式的要求
11.3 日本對視圖提交方式的要求
11.4 歐盟對視圖提交方式的要求
11.5 不同領(lǐng)域申請視圖提交方式實例
第12章 特殊視圖的使用方式
12.1 中國對特殊視圖的使用要求
12.2 美國對特殊視圖的使用要求
12.3 日本對特殊視圖的使用要求
第13章 外觀設(shè)計專利申請中圖案和色彩的作用
13.1 中國申請相關(guān)要求
13.2 圖案和色彩的作用和地位
13.3 國內(nèi)外實際判例介紹
第14章 部件、構(gòu)件的申請方式
14.1 產(chǎn)品的形式及保護(hù)范圍分析
14.2 中國對產(chǎn)品部件、構(gòu)件的申請要求
14.3 美國對產(chǎn)品部件、構(gòu)件的申請要求
14.4 日本對產(chǎn)品部件、構(gòu)件的申請要求
14.5 歐盟對產(chǎn)品部件、構(gòu)件的申請要求
14.6 韓國對產(chǎn)品部件、構(gòu)件的申請要求
14.7 產(chǎn)品部件、構(gòu)件申請建議
第15章 系列產(chǎn)品的保護(hù)策略
15.1 產(chǎn)品設(shè)計基因的保護(hù)
15.2 防御性專利布局
15.3 周邊產(chǎn)品的保護(hù)
15.4 迭代產(chǎn)品的保護(hù)
第16章 合案申請
16.1 中國對合案申請的法律規(guī)定
16.2 美國對合案申請的法律規(guī)定
16.3 日本對合案申請的法律規(guī)定
16.4 歐盟對合案申請的法律規(guī)定
16.5 韓國對合案申請的法律規(guī)定
第17章 外觀設(shè)計專利申請被駁回后的救濟程序
17.1 重新申請程序介紹
17.2 提出申訴申請程序介紹
17.3 兩種救濟途徑的比較與選擇（救濟方法的適用）
第18章 產(chǎn)品領(lǐng)域分類介紹
18.1 外觀設(shè)計在產(chǎn)品研發(fā)過程中的重要性
18.2 國際工業(yè)品外觀設(shè)計分類
18.3 產(chǎn)品特性分類
第19章 快速授權(quán)制度介紹
19.1 中國相關(guān)申請要求
19.2 美國相關(guān)申請要求
19.3 日本相關(guān)申請要求
19.4 歐盟相關(guān)申請要求
19.5 韓國相關(guān)申請要求
19.6 申請方式的選擇
第四部分 前瞻性保護(hù)策略及展望
第20章 帶圖形用戶界面外觀設(shè)計申請方式
20.1 中國對帶圖形用戶界面的申請要求
20.2 美國對帶圖形用戶界面的申請要求
20.3 日本對帶圖形用戶界面的申請要求
20.4 歐盟對帶圖形用戶界面的申請要求
20.5 韓國對帶圖形用戶界面的申請要求
20.6 申請策略和制度展望
第21章 局部設(shè)計申請
21.1 局部外觀設(shè)計申請簡介
21.2 美國對局部外觀設(shè)計的申請要求
21.3 日本對局部外觀設(shè)計的申請要求
21.4 歐盟對局部外觀設(shè)計的申請要求
21.5 韓國對局部外觀設(shè)計的申請要求
21.6 中國保護(hù)局部外觀設(shè)計的必要性
21.7 局部外觀設(shè)計保護(hù)制度展望
第22章 延期公開申請
22.1 延期公開制度簡介
22.2 美國對延期公開的申請要求
22.3 日本對延期公開的申請要求
22.4 歐盟對延期公開的申請要求
22.5 韓國對延期公開的申請要求
22.6 外觀專利延期公開制度展望