透射電鏡中電子磁手性二向色性技術(shù)的研究

目錄




第1章引言

1.1研究背景及選題意義

1.2EMCD技術(shù)

1.2.1EMCD技術(shù)的基本原理

1.2.2EMCD技術(shù)的發(fā)展及應(yīng)用

1.2.3EMCD技術(shù)與XMCD技術(shù)的比較

1.3EMCD衍射幾何中光闌位置的說明

1.4透射電鏡中的其他磁性表征技術(shù)

1.5本書的選題和研究內(nèi)容

1.5.1EMCD技術(shù)中存在的問題和需要發(fā)展的方向

1.5.2本書的研究內(nèi)容



第2章EMCD技術(shù)定量磁參數(shù)測量的一般方法


2.1本章引論

2.2占位分辨EMCD技術(shù)的局限性

2.3定量EMCD技術(shù)磁參數(shù)測量的一般框架

2.4衍射動(dòng)力學(xué)效應(yīng)與EMCD技術(shù)

2.4.1衍射動(dòng)力學(xué)效應(yīng)

2.4.2衍射動(dòng)力學(xué)效應(yīng)與EMCD技術(shù)的理論框架

2.5三束衍射幾何的不對(duì)稱性

2.5.1不對(duì)稱性的來源

2.5.2三束條件下不對(duì)稱性的分布

2.5.3不對(duì)稱性對(duì)定量磁參數(shù)測量的影響

2.6定量磁參數(shù)測量的一般方法

2.6.1YIG晶體結(jié)構(gòu)的分析

2.6.2尋找衍射條件的一般方法

2.6.3實(shí)驗(yàn)衍射幾何的優(yōu)化和光闌位置的選擇

2.6.4EMCD信號(hào)的實(shí)驗(yàn)采集

2.6.5本征磁信號(hào)的提取

2.6.6占位分辨EELS信號(hào)的提取

2.6.7定量磁參數(shù)的計(jì)算及誤差分析

2.7正帶軸衍射幾何下的EMCD技術(shù)

2.7.1正帶軸衍射幾何的問題和優(yōu)勢

2.7.2材料體系的選擇

2.7.3理論模擬

2.7.4實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論

2.7.5正帶軸衍射幾何下的占位分辨技術(shù)

2.7.6正帶軸衍射幾何下幾點(diǎn)需要說明的問題

2.8本章小結(jié)



第3章EMCD技術(shù)本征磁信號(hào)的測量


3.1本章引論

3.2EMCD技術(shù)面內(nèi)磁信號(hào)探測的基本原理

3.2.1基本原理

3.2.2理論模擬

3.2.3衍射幾何與信號(hào)的分離

3.3實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)與結(jié)果

3.3.1樣品選擇和實(shí)驗(yàn)條件

3.3.2實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論

3.4面內(nèi)EMCD技術(shù)中幾點(diǎn)需要說明的問題

3.4.1面內(nèi)EMCD技術(shù)的衍射幾何

3.4.2洛倫茲模式與EMCD技術(shù)結(jié)合中的問題

3.4.3面內(nèi)EMCD技術(shù)與其他實(shí)驗(yàn)設(shè)置的結(jié)合

3.5本章小結(jié)



第4章協(xié)同表征下高空間分辨EMCD技術(shù)的應(yīng)用

4.1本章引論

4.2YIGPt界面自旋流的研究

4.2.1自旋流

4.2.2YIGPt界面自旋流輸運(yùn)性質(zhì)的研究

4.3YIGPt界面性質(zhì)的研究

4.3.1界面無序結(jié)構(gòu)對(duì)自旋流輸運(yùn)的影響

4.3.2界面化學(xué)成分和電子結(jié)構(gòu)

4.3.3YIGPt的界面磁性質(zhì)

4.4本章小結(jié)



第5章透射電鏡中的其他磁性表征技術(shù)


5.1本章引論

5.2Skyrmion

5.2.1Skyrmion及其基本性質(zhì)

5.2.2限域幾何中的skyrmion

5.3洛倫茲成像技術(shù)及應(yīng)用

5.3.1基本原理

5.3.2TIE方法

5.3.3納米條帶中skyrmion的洛倫茲表征

5.4電子全息技術(shù)

5.4.1基本原理

5.4.2相位分離方法

5.4.3Skyrmion納米條帶中邊緣態(tài)的研究

5.5透射電鏡中幾種磁性表征方法的比較

5.6本章小結(jié)



第6章結(jié)論與展望

6.1結(jié)論

6.2展望



參考文獻(xiàn)


附錄AEMCD中關(guān)于非彈性電子散射的理論計(jì)算


在學(xué)期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文


致謝