納米材料在環(huán)境污染物去除中的應(yīng)用

第1章 納米材料制備與實(shí)驗(yàn)性能分析
1．1 引言
1．2 吸附法
1．2．1 吸附的基本原理
1．2．2 吸附作用力
1．3 宏觀實(shí)驗(yàn)與吸附模型
1．3．1 材料的制備與改性
1．3．2 吸附動(dòng)力學(xué)模型
1．3．3 吸附熱力學(xué)過程
1．3．4 pH值與離子強(qiáng)度
1．3．5 再生實(shí)驗(yàn)
1．4 光譜分析l
1．4．1 電子顯微鏡
1．4．2 能量色散X射線譜
1．4．3 BET法
1．4．4 X射線衍射
1．4．5 X射線光電子
1．4．6 紫外-可見分光光度法
1．4．7 傅立葉變換紅外光譜（FTIR）
1．4．8 x射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)譜
參考文獻(xiàn)
第2章 理論計(jì)算方法簡(jiǎn)介
2．1 薛定諤方程
2．2 玻恩-奧本海默近似
2．3 Hartree-Fock方程及自洽場(chǎng)方法
2．4 Hohenbetg-Kohn定理和Kohn-Sham方程
2．5 交換相關(guān)能量泛函
2．6 贗勢(shì)
2．6．1 模守恒贗勢(shì)
2．6．2 超軟贗勢(shì)
2．6．3 投影綴加波方法贗勢(shì)
2．7 常用的第一性原理計(jì)算軟件簡(jiǎn)介
參考文獻(xiàn)
第3章 石墨烯基材料
3．1 引言
3．2 石墨烯
3．2．1 合成方法
3．2．2 石墨烯的性能
3．3 石墨烯衍生物
3．3．1 氧化石墨烯（GO）
3．3．2 改性石墨烯材料
3．3．3 石墨烯基復(fù)合材料
3．3．4 三維石墨烯材料
3．4 石墨烯基材料對(duì)環(huán)境中污染物去除的實(shí)驗(yàn)研究
3．4．1 去除放射性核素
3．4．2 去除重金屬離子
3．4．3 去除有機(jī)污染物
3．5 理論計(jì)算分析
3．5．1 吸附能
3．5．2 靜電勢(shì)
3．5．3 差分電荷密度圖
3．5．4 電荷分布
3．5．5 態(tài)密度
3．5．6 振動(dòng)頻率
3．5．7 前線分子軌道
3．6 石墨烯基材料對(duì)污染物去除的理論研究
3．6．1 去除放射性核素
3．6．2 去除重金屬離子
3．6．3 去除有機(jī)污染物
參考文獻(xiàn)
第4章 層狀雙金屬氫氧化物（LDHs）
4．1 晶體結(jié)構(gòu)特征
4．1．1 晶體結(jié)構(gòu)
4．1．2 主要性質(zhì)
4．1．3 制備工藝與改性
4．1．4 表面特征
4．2 LDHs去除水溶液中的放射性核素
4．2．1 吸附機(jī)理
4．2．2 吸附動(dòng)力學(xué)過程
4．2．3 吸附熱力學(xué)
4．2．4 其他影響因素
4．3 去除無(wú)機(jī)陰離子
4．3．1 吸附機(jī)理類
4．3．2 吸附動(dòng)力學(xué)過程
4．3．3 吸附熱力學(xué)
4．3．4 其他影響因素
4．4 去除其他污染物
4．4．1 去除機(jī)制
4．4．2 影響因素
4．5 理論計(jì)算
4．5．1 去除放射性核元素
4．5．2 去除重金屬離子
4．5．3 去除有機(jī)染料分子
參考文獻(xiàn)
第5章 金屬有機(jī)框架材料（MOFs）
5．1 引言
5．2 晶體結(jié)構(gòu)與制備工藝
5．2．1 晶體結(jié)構(gòu)
5．2．2 制備工藝
5．3 MOFs的吸附應(yīng)用、機(jī)理及影響因素
5．3．1 MOFs吸附應(yīng)用
5．3．2 吸附機(jī)理
5．3．3 影響因素
5．4 理論計(jì)算
5．4．1 UiO-66-SH選擇性去除汞離子計(jì)算
5．4．2 MOFs對(duì)氣體的吸附效果研究相關(guān)計(jì)算
參考文獻(xiàn)
第6章 石墨相氮化碳基納米復(fù)合材料
6．1 光催化概述
6．2 雜化或異質(zhì)結(jié)構(gòu)的g-C3N4基納米光催化材料
6．3 雜原子摻雜的g-C3N4基納米光催化材料
6．4 基于密度泛函理論研究g-C3N4基納米光催化材料的特性及其光催化機(jī)理
6．5 石墨相氮化碳材料吸附去除環(huán)境污染物
參考文獻(xiàn)