中國電子信息工程科技發(fā)展研究：集成電路芯片制造工藝專題

定　價：￥48.00

作　者：	中國信息與電子工程科技發(fā)展戰(zhàn)略研究中心著
出版社：	科學出版社
叢編項：	中國電子信息工程科技發(fā)展研究
標　簽：	暫缺

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ISBN：	9787030623591	出版時間：	2019-10-01	包裝：	平裝
開本：	32開	頁數(shù)：	76	字數(shù)：

內(nèi)容簡介

　　在集成電路產(chǎn)業(yè)中，芯片制造技術是產(chǎn)業(yè)鏈中的核心環(huán)節(jié)之一?！吨袊娮有畔⒐こ炭萍及l(fā)展研究集成電路芯片制造工藝專題》嘗試從芯片大生產(chǎn)制造的角度，介紹芯片制造關鍵單項工藝和工藝集成技術（與《中國電子信息工程科技發(fā)展研究：集成電路產(chǎn)業(yè)專題》銜接）。試圖以產(chǎn)業(yè)發(fā)展主流工藝為導向，側(cè)重原理和產(chǎn)業(yè)應用實際相結(jié)合，盡量避免冗長深奧的物理、化學公式和原理推導。定性地對芯片生產(chǎn)制造工藝中的關鍵單項工藝進行描述，并在介紹單項工藝后，解釋具有復雜系統(tǒng)工程特點的工藝集成技術難點。重點介紹芯片制造工藝中存在的五個主要挑戰(zhàn)和可能的解決途徑。最后討論芯片制造工藝產(chǎn)業(yè)鏈生態(tài)鏈的依賴關系。

作者簡介

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圖書目錄

目錄
《中國電子信息工程科技發(fā)展研究》編寫說明
前言
第1章概述 1
第2章集成電路芯片制造工藝流程 3
第3章關鍵單項工藝介紹 7
3.1 光刻工藝 7
3.2 刻蝕工藝 10
3.3 薄膜制備工藝 14
3.4 外延工藝 19
3.5 擴散和離子注入工藝 20
3.6 氧化工藝 23
第4章工藝集成技術 26
第5章先進芯片制造工藝技術的主要挑戰(zhàn) 38
第6章總結(jié)與致謝 70
參考文獻 71