微弧氧化技術(shù)與應(yīng)用

　　本書包括微弧氧化技術(shù)的基礎(chǔ)知識與應(yīng)用研究兩大部分。首先闡述了與微弧氧化技術(shù)密切相關(guān)的一些基本概念與基本理論，內(nèi)容包括微弧氧化技術(shù)的原理、特點(diǎn)、設(shè)備、工藝、質(zhì)量評價與測試方法等；然后重點(diǎn)介紹了微弧氧化技術(shù)及與其他表面技術(shù)復(fù)合而發(fā)展起來的各種微弧氧化復(fù)合處理技術(shù)的研究成果，內(nèi)容主要包括電解液體系、添加劑、電流密度、氧化電壓、氧化時間等參數(shù)對微弧氧化膜層組織與性能的影響，同時還介紹了微弧氧化技術(shù)在鋁、鎂、鈦及其合金上的一些應(yīng)用實(shí)例。

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