磁控濺射制備氮化銅薄膜的結構與性能

定　價：￥57.00

作　者：	肖劍榮
出版社：	中國水利水電出版社
叢編項：
標　簽：	暫缺

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ISBN：	9787517074397	出版時間：	2019-04-01	包裝：	平裝
開本：	16開	頁數(shù)：	173	字數(shù)：

內容簡介

　　磁控濺射是一種通用、成熟的薄膜制備工藝技術，其制備工藝可調劑參數(shù)較多，通過精細控制能夠實現(xiàn)對薄膜結構的有效調控?！洞趴貫R射制備氮化銅薄膜的結構與性能》研究了薄膜的工藝參數(shù)、薄膜結構與性能等之間的內在關系，探討了薄膜的電子輸運、光學帶隙、熱穩(wěn)定性的有關物理量的變化機制。全書結構合理，條理清晰，內容豐富新穎，可供相關工程技術人員參考使用。

作者簡介

暫缺《磁控濺射制備氮化銅薄膜的結構與性能》作者簡介

圖書目錄

前言
第1章緒論
1．1 薄膜簡介
1．2 薄膜的性質
1．3 薄膜制備技術
1．4 薄膜的表征技術

第2章氮化銅薄膜研究現(xiàn)狀
2．1 Cu3N薄膜的制備技術
2．2 Cu3N薄膜的晶體結構
2．3 電學和光學性能
2．4 熱、力學性能和耐腐蝕性
2．5 Cu3N薄膜的應用

第3章氮化銅薄膜的制備
3．1 磁控濺射技術
3．2 JGP-450a型多功能磁控濺射系統(tǒng)
3．3 氮化銅薄膜的制備

第4章氮化銅薄膜的結構研究
4．1 薄膜的結構分析
4．2 薄膜的表面形貌
4．3 薄膜的組分
4．4 薄膜的晶格常數(shù)

第5章氮化銅的性能研究
5．1 薄膜的電學性能
5．2 薄膜的光學性能
5．3 薄膜的熱穩(wěn)定性研究

第6章氮化銅的第一性原理研究
6．1 概述
6．2 計算方法及過程
6．3 氮化銅的電子結構計算結果
結論與展望
參考文獻
附錄