調(diào)制氣流聲源換能機理

第一章 緒論
1．1 氣流聲源概述
1．2 調(diào)制氣流聲源與受限調(diào)制射流問題
1．2．1 調(diào)制氣流聲源裝置
1．2．2 相關理論
1．2．3 人的發(fā)聲機理
參考文獻
第二章 調(diào)制氣流聲源理論分析方法
2．1 準穩(wěn)態(tài)理論
2．1．1 嚴格理論
2．1．2 近似理論
2．1．3 氣流產(chǎn)額和換能效率
2．1．4 準穩(wěn)態(tài)理論實現(xiàn)
2．1．5 計算結果和結論
2．1．6 評價和局限性
2．2 混合氣動聲學建模方法
2．3 FW-H聲類比理論和求解方法
參考文獻
第三章 調(diào)制氣流聲源數(shù)值計算方法
3．1 聲源基本結構和建模假設
3．2 內(nèi)氣動系統(tǒng)模型
3．2．1 物理模型
3．2．2 建模軟件
3．2．3 計算區(qū)域與網(wǎng)格劃分
3．2．4 邊界條件
3．2．5 湍流模型與壁面函數(shù)
3．2．6 動網(wǎng)格
3．2．7 模型參數(shù)
3．2．8 求解策略
3．3 振動系統(tǒng)模型
參考文獻
第四章 內(nèi)流場與近距離聲場
4．1 實驗系統(tǒng)
4．1．1 單點測試系統(tǒng)
4．1．2 穩(wěn)態(tài)流場PIV測試系統(tǒng)
4．1．3 設備型號
4．2 穩(wěn)態(tài)流場
4．2．1 裝置單點測壓實驗
4．2．2 實驗模型單點壓力
4．2．3 實驗模型PIV速度場
4．3 瞬態(tài)流場和聲壓級
4．3．1 調(diào)制部件頻響
4．3．2 流場頻響結果
4．3．3 聲場頻響結果
4．4 聲源參數(shù)的影響
4．4．1 激勵電流
4．4．2 氣室壓力
4．4．3 噴口出口寬度
4．4．4 喉道入口寬度
4．5 強聲場指向性
參考文獻
第五章 不同參數(shù)下氣聲轉(zhuǎn)換過程
5．1 仿真模型驗證
5．1．1 穩(wěn)態(tài)速度場
5．1．2 穩(wěn)態(tài)壓力場
5．1．3 振動系統(tǒng)磁場和位移
5．2 典型內(nèi)流場特性
5．3 氣室壓力
5．3．1 穩(wěn)態(tài)流場
5．3．2 瞬態(tài)流場
5．4 調(diào)制頻率
5．4．1 面平均壓力
5．4．2 喉道內(nèi)測點靜壓值
5．4．3 壓力場快照
5．4．4 高頻調(diào)制流場和聲場特性
5．5 結構參數(shù)
5．5．1 低頻調(diào)制下改變喉道入口寬度
5．5．2 高頻調(diào)制下改變喉道入口寬度
5．6 工作介質(zhì)
參考文獻
第六章 超聲速調(diào)制
6．1 概述
6．1．1 多喉道管流理論
6．1．2 超聲速型線設計
6．1．3 超聲速噴口部件及效果
6．2 超聲速調(diào)制增益
6．2．1 聲場特性
6．2．2 增益效果
6．2．3 噴口參數(shù)影響
6．2．4 高聲壓級結果
6．2．5 喉道內(nèi)擾動壓力
6．3 氣室壓力的影響
6．3．1 氣室壓力0．7 29MPa
6．3．2 氣室壓力1．2 MPa
6．3．3 氣室壓力0．2 MPa
6．3．4 流量特性
6．4 延時調(diào)制
6．4．1 延時調(diào)制函數(shù)
6．4．2 流場結果
參考文獻
第七章 聲源內(nèi)氣動系統(tǒng)設計
7．1 引言
7．2 氣隙漏氣與引射作用
7．3 喉道型線設計
7．3．1 射流碰撞
7．3．2 局部高壓區(qū)
7．3．3 流動分離
7．3．4 流量特性
7．3．5 單值性約束外噴管
7．3．6 小型化喉道設計
7．4 聲號筒耦合
7．4．1 穩(wěn)態(tài)流場
7．4．2 瞬態(tài)流場
7．5 外噴式聲源
7．5．1 穩(wěn)態(tài)流場
7．5．2 瞬態(tài)流場
參考文獻