折射衍射微光學結(jié)構(gòu)的單步光刻與濕法蝕刻原理與應(yīng)用

第1章 光波衍射積分變換的基礎(chǔ)理論與基本方法
1．1 光衍射圖像生成
1．2 衍射微光學結(jié)構(gòu)
1．3 設(shè)計實例
1．4 小結(jié)
第2章 衍射微光學圖像生成與發(fā)射結(jié)構(gòu)
2．1 單步光刻與硅KOH濕法蝕刻
2．2 可見光圖像發(fā)射效能評估
2．3 小結(jié)
第3章 折射微光學波前出射結(jié)構(gòu)
3．1 問題與挑戰(zhàn)
3．2 折射微光學波前出射結(jié)構(gòu)的工藝制作方法
3．3 可見光譜域光學性能測試與評估
3．4 小結(jié)
第4章 相干光波的衍射整形與頻譜空間分離
4．1 基礎(chǔ)理論與基本方法
4．2 常規(guī)近場與遠場衍射積分變換
4．3 衍射結(jié)構(gòu)設(shè)計算法
4．4 基于遠場衍射的頻譜空間分離
4．5 準連續(xù)相位分布的衍射微光學結(jié)構(gòu)
4．5．1 光程差算法
4．5．2 GS算法
4．5．3 模擬退火算法
4．5．4 時域有限差分法
4．5．5 基于角譜的串行迭代算法
4．6 衍射微光學結(jié)構(gòu)設(shè)計
4．7 毫米級近場的衍射積分變換
4．8 小結(jié)
第5章 構(gòu)建衍射微光學結(jié)構(gòu)執(zhí)行復雜光束變換
5．1 衍射相位結(jié)構(gòu)
5．2 硅的各向異性KOH濕法蝕刻
5．3 測試與分析
5．4 具有準連續(xù)相位分布的衍射微光學波前結(jié)構(gòu)
5．5 衍射微光學遠場光束整形
5．5．1 單步電子束曝光
5．5．2 測試、分析與討論
5．6 適用于毫米級近場光束整形的衍射微光學結(jié)構(gòu)
5．6．1 關(guān)鍵工藝流程
5．6．2 特征屬性表征與測試
5．6．3 常規(guī)光學性能測試與評估
5．7 小結(jié)
第6章 太赫茲圖像的光衍射發(fā)射
6．1 太赫茲波衍射相位結(jié)構(gòu)與光刻版圖
6．2 硅基太赫茲波衍射相位結(jié)構(gòu)濕法蝕刻
6．3 典型特征評估
6．4 衍射相位結(jié)構(gòu)設(shè)計與實現(xiàn)
6．4．1 KOH濕法蝕刻
6．4．2 測試、討論與分析
6．5 小結(jié)
……
第7章 紅外與太赫茲波衍射微光學波前結(jié)構(gòu)
第8章 硅基非球面光學折射結(jié)構(gòu)
參考文獻