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雷達與通信系統(tǒng)收發(fā)組件技術(shù)

雷達與通信系統(tǒng)收發(fā)組件技術(shù)

定 價:¥128.00

作 者: (美)瑞克 斯特迪文特
出版社: 國防工業(yè)出版社
叢編項:
標(biāo) 簽: 暫缺

ISBN: 9787118125122 出版時間: 2022-07-01 包裝: 平裝-膠訂
開本: 16開 頁數(shù): 字數(shù):  

內(nèi)容簡介

  本書濃縮了近30年來射頻前端技術(shù)的應(yīng)用研究和開發(fā)經(jīng)驗。在某種程度上,編者之所以寫這本書,是因為編者開設(shè)了一門以T/R組件為對象的專業(yè)教育課程。本書通過以下方面對T/R組件進行全面論述:雷達與通信系統(tǒng)中的相控陣介紹,T/R組件及其元器件,單片微波集成電路(MMIC),T/R組件封裝,射頻互連材料,T/R組件熱管理,MMIC和T/R組件制造、測試、成本和下一代T/R組件技術(shù)。

作者簡介

暫缺《雷達與通信系統(tǒng)收發(fā)組件技術(shù)》作者簡介

圖書目錄

第1章 相控陣
1.1 雷達與通信系統(tǒng)中的相控陣
1.2 天線
1.3 天線方向圖和線陣
1.4 電掃天線
1.5 雷達探測方程
1.6 氣象雷達方程
1.7 通信系統(tǒng)中的相控陣
1.8 小結(jié)
習(xí)題
參考文獻
第2章 T/R組件
2.1 T/R組件概述
2.2 T/R組件早期開發(fā)工作
2.3 基于MMIC的T/R組件
2.4 T/R組件的性能要求
2.5 T/R組件元器件
2.5.1 T/R開關(guān)
2.5.2 移相器
2.5.3 衰減器
2.5.4 多功能芯片
2.5.5 驅(qū)動放大器
2.5.6 功率放大器
2.5.7 環(huán)行器/雙工器
2.5.8 限幅器或接收保護電路
2.5.9 低噪聲放大器
2.6 組件控制和電源
2.7 小結(jié)
習(xí)題
參考文獻
第3章 T/R組件中的半導(dǎo)體
3.1 引言
3.2 半導(dǎo)體材料
3.2.1 砷化鎵
3.2.2 異質(zhì)材料
3.2.3 碳化硅
3.2.4 氮化鎵
3.2.5 磷化銦
3.2.6 鍺硅
3.3 射頻半導(dǎo)體晶圓制造流程
3.3.1 隔離
3.3.2 歐姆接觸
3.3.3 柵制作
3.3.4 介質(zhì)沉積
3.3.5 電鍍
3.3.6 空氣橋
3.4 有源器件
3.4.1 GaAs MESFlET
3.4.2 GaAs PHEMT
3.4.3 GaN HEMT
3.5 MMIC
3.6 小結(jié)
習(xí)題
參考文獻
第4章 T/R組件的信號完整性問題
4.1 引言
4.2 芯片級互連
4.2.1 引線鍵合方法
4.2.2 引線鍵合模型
4.2.3 倒裝芯片方法
4.3 封裝/模塊級互連
4.3.1 模塊級互連
4.3.2 SMT封裝互連
4.4 傳輸線互連
4.5 互連間的耦合
4.6 垂直過渡互連
4.7 組件級諧振
4.8 小結(jié)
習(xí)題
參考文獻
第5章 T/R組件的材料
5.1 引言
5.2 電氣參數(shù)和測試
5.2.1 介電常數(shù)
5.2.2 損耗角正切值
5.2.3 介電常數(shù)和損耗角正切值的測量
5.2.4 金屬電導(dǎo)率
5.3 機械參數(shù)
5.3.1 熱導(dǎo)率
5.4 陶瓷材料
5.4.1 薄膜陶瓷
5.4.2 厚膜陶瓷
5.4.3 熱增強厚膜工藝
5.4.4 高溫共燒陶瓷
5.4.5 低溫共燒陶瓷
5.5 層壓封裝
5.5.1 層壓板制造
5.5.2 高性能層壓材料
5.5.3 液晶聚合物
5.5.4 MCM-L層壓板多芯片組件
5.6 小結(jié)
習(xí)題
參考文獻
第6章 T/R組件的散熱問題及其解決方案
6.1 引言
6.2 高功率放大器芯片的熱流密度
6.3 放大器效率和熱損耗
6.4 熱阻和器件結(jié)溫
6.5 T/R組件中器件散熱示例
6.6 可靠性計算
6.7 應(yīng)用于T/R組件的金剛石基GaN高功率放大器
6.8 sPIcE熱仿真
6.9 熱測量
6.9.1 電測法
6.9.2 光學(xué)測量法
6.9.3 采用液晶熱像儀進行溫度測量
6.9.4 使用替代驗證芯片進行熱設(shè)計
6.10 小結(jié)
習(xí)題
參考文獻
第7章 MMIC制造和T/R組件制造
7.1 引言
7.2 MMIC制造
7.2.1 MMIC廠房
7.2.2 MMIC制造工藝
7.2.3 MMIc晶圓代工程序
7.3 T/R組件制造
7.3.1 T/R組件制造廠房
7.3.2 T/R組件制造工藝
7.4 小結(jié)
習(xí)題
參考文獻
第8章 MMIC和T/R組件測試
8.1 引言
8.2 MMIC測試
8.2.1 來料檢測
8.2.2 過程中檢測
8.2.3 片上射頻性能測試
8.2.4 MMIC篩選測試
8.2.5 MMIC可靠性測試
8.3 T/R組件技術(shù)參數(shù)
8.4 T/R組件測試
8.4.1 關(guān)鍵電性能參數(shù)
8.4.2 x波段T/R組件關(guān)鍵參數(shù)要求示例
8.4.3 自動測試系統(tǒng)
8.5 小結(jié)
習(xí)題
參考文獻
第9章 MMIC和T/R組件成本
9.1 引言
9.2 MMIC成本
9.2.1 MMIC晶圓制造成本
9.2.2 晶圓制造工藝成品率
9.2.3 晶圓直徑對MMIC成本的影響
9.2.4 MMIc制造設(shè)施負荷對成本的影響
9.2.5 基于面積或輸出功率的MMIC成本
9.3 T/R組件成本
9.4 降低成本
9.4.1 降低MMIC成本
9.4.2 減少T/R組件成本
9.5 小結(jié)
習(xí)題
參考文獻
第10章 下一代T/R組件
10.1 引言
10.2 單芯片T/R組件
10.3 晶圓級相控陣
10.4 si—CMOS:成本最低的單芯片T
10.5 數(shù)字波束形成
10.6 混合數(shù)字/模擬波束形成
10.7 波束切換和巴特勒矩陣相控陣
10.8 T/R組件的高度集成度封裝
10.9 低成本系統(tǒng)的途徑:開放式架構(gòu)
10.10 小結(jié)
習(xí)題
參考文獻

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