高等物理實(shí)驗(yàn)精選

序
前言
章　低溫下材料的物理性質(zhì)與測(cè)試技術(shù)
　1.0　引言
　1.1　低溫基礎(chǔ)技術(shù)
　　1.1.1　低溫液體的性質(zhì)和使用
　　1.1.2　低溫液體的貯存和輸送
　　1.1.3　小型制冷機(jī)
　1.2　低溫恒溫器
　　1.2.1　高真空絕熱恒溫器
　　1.2.2　減壓降溫恒溫器
　　1.2.3　漏熱恒溫器
　　1.2.4　連續(xù)流恒溫器
　　1.2.5　制冷機(jī)冷卻的低溫恒溫器
　　1.2.6　PPMS簡(jiǎn)介
　1.3　材料低溫物性的實(shí)驗(yàn)研究與測(cè)試技術(shù)
　　1.3.1　材料的電特性與直流測(cè)量
　　1.3.2　材料的磁特性與交流測(cè)量
　　1.3.3　低溫溫度控制與自動(dòng)化
　　1.3.4　測(cè)量過程自動(dòng)化
　1.4　材料的低溫物性與測(cè)試技術(shù)實(shí)驗(yàn)內(nèi)容和安排
　　1.4.1　實(shí)驗(yàn)?zāi)康呐c要求
　　1.4.2　本實(shí)驗(yàn)提供的技術(shù)條件
　　1.4.3　實(shí)驗(yàn)安排
　　1.4.4　實(shí)驗(yàn)內(nèi)容
　附錄
　參考文獻(xiàn)
第二章　薄膜制備和性能測(cè)試
　2.0　引言
　2.1　真空科學(xué)和技術(shù)
　　2.1.1　氣體分子運(yùn)動(dòng)論的基本公式
　　2.1.2　氣體輸運(yùn)和泵抽速
　　2.1.3　真空泵
　　2.1.4　真空系統(tǒng)
　2.2　真空蒸發(fā)鍍膜的物理基礎(chǔ)
　　2.2.1　蒸發(fā)速率
　　2.2.2　合金蒸發(fā)
　　2.2.3　多元化合物（氧化物）的蒸發(fā)
　　2.2.4　薄膜的厚度均勻性和純度
　2.3　濺射工藝
　　2.3.1　等離子體的物理基礎(chǔ)
　　2.3.2　濺射物理
　　2.3.3　直流（DC）濺射
　　2.3.4　射頻（RF）濺射
　2.4　ITO薄膜及其制備
　　2.4.1　ITO膜的基本性質(zhì)
　　2.4.2　蒸發(fā)法制備ITO膜
　　2.4.3　濺射法制備ITO膜
　2.5　薄膜的電學(xué)和光學(xué)特性及其測(cè)量
　　2.5.1　ITO薄膜的電學(xué)特性及其測(cè)量
第三章　光學(xué)相干性實(shí)驗(yàn)
第四章　激光技術(shù)及強(qiáng)激光與物質(zhì)相互作用實(shí)驗(yàn)
第五章　光的力學(xué)效應(yīng)系列實(shí)驗(yàn)