中藥智能制造專利研究

第一章 緒論-001
第一節(jié) 中藥智能制造專利研究背景及目的 /001
一、技術(shù)概況 /001
二、產(chǎn)業(yè)與政策環(huán)境 /002
三、中國中藥智能制造發(fā)展現(xiàn)狀 /003
第二節(jié) 中藥智能制造專利研究方法及相關(guān)事項約定 /004
一、技術(shù)分解 /004
二、數(shù)據(jù)檢索與處理 /005
三、相關(guān)事項約定 /007
第二章 中藥智能制造專利總體情況分析-008
第一節(jié) 全球中藥智能制造專利技術(shù)分析 /008
一、申請趨勢 /008
二、地域布局 /008
三、主要申請人 /009
四、技術(shù)構(gòu)成 /010
第二節(jié) 中國中藥智能制造專利技術(shù)分析 /013
一、申請趨勢 /013
二、地域分布 /013
三、主要申請人 /014
四、技術(shù)構(gòu)成 /016
五、法律狀態(tài) /017
六、專利轉(zhuǎn)化運用 /018
第三節(jié) 小結(jié) /018
一、全球中藥智能制造專利分析 /018
二、中國中藥智能制造專利分析 /018
第三章 關(guān)鍵核心技術(shù)專利分析-020
第一節(jié) 制劑前處理智能化 /020
一、技術(shù)概況 /020
二、全球?qū)＠暾埛治?/021
三、中國專利申請分析 /024
四、重點企業(yè)關(guān)鍵核心技術(shù)分析 /032
五、重要高校技術(shù)攻關(guān)情況分析 /033
六、提取關(guān)鍵技術(shù)專利分析 /035
第二節(jié) 制劑成型智能化 /047
一、技術(shù)概況 /047
二、全球?qū)＠治?/048
三、中國專利申請分析 /052
四、重點企業(yè)關(guān)鍵核心技術(shù)分析 /055
五、重要高校技術(shù)攻關(guān)情況分析 /058
第三節(jié) 質(zhì)量智能管理 /061
一、技術(shù)概況 /061
二、專利分布 /062
三、技術(shù)構(gòu)成 /066
四、重點企業(yè)關(guān)鍵核心技術(shù)分析 /067
五、重要高校技術(shù)攻關(guān)情況分析 /069
第四節(jié) 小結(jié) /071
一、制劑前處理智能化專利分析 /071
二、制劑前處理智能化關(guān)鍵技術(shù)專利分析 /072
三、制劑成型智能化專利分析 /073
四、質(zhì)量智能管理專利分析 /073
第四章 代表性主體專利技術(shù)分析-075
第一節(jié) 國內(nèi)主體專利分析 /075
一、浙江大學 /075
二、楚天科技 /089
三、東富龍 /101
四、新華醫(yī)療 /113
第二節(jié) 國外主體專利分析 /123
一、博世公司 /124
二、伊馬集團 /132
第三節(jié) 小結(jié) /136
一、國內(nèi)主體專利分析 /136
二、國外主體專利分析 /137
第五章 天津代表性主體專利技術(shù)分析-138
第一節(jié) 天津中醫(yī)藥大學 /138
一、申請趨勢 /139
二、技術(shù)布局 /140
三、技術(shù)發(fā)展脈絡(luò) /145
四、重點專利 /147
五、合作研發(fā) /154
第二節(jié) 天士力 /155
一、申請趨勢 /156
二、技術(shù)布局 /157
三、技術(shù)發(fā)展脈絡(luò) /161
四、重點專利 /162
五、合作研發(fā) /170
第三節(jié) 達仁堂 /171
一、申請趨勢 /171
二、技術(shù)布局 /172
三、技術(shù)發(fā)展脈絡(luò) /176
四、重點專利 /177
五、合作研發(fā) /181
第四節(jié) 小結(jié) /182
第六章 中藥智能制造核心技術(shù)前瞻性分析-184
第一節(jié) 專利分析 /184
一、自動化炮制 /184
二、制劑前處理智能化 /185
三、制劑成型智能化 /188
四、質(zhì)量智能管理 /189
第二節(jié) 文獻分析 /191
一、分析方法和數(shù)據(jù)來源 /191
二、研究現(xiàn)狀分析 /192
三、研究熱點分析 /194
四、研究趨勢分析 /201
第三節(jié)小結(jié)/201
第七章中藥智能制造專利研究結(jié)果與展望-203
第一節(jié)中藥智能制造專利研究結(jié)果/203
一、專利申請格局/203
二、關(guān)鍵技術(shù)/203
三、代表性企業(yè)/204
四、文獻與專利的前瞻性分析/205
第二節(jié)展望/206
附表-220